[發(fā)明專利]一種吸液針清洗系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110680261.2
• 申請日: 2021-06-18
• 公開（公告）號: CN113399380A
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭曙劍;童德兵
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州隆基生物技術(shù)有限公司
• 主分類號: B08B9/023
• 分類號: B08B9/023;B08B9/04;B08B13/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 溫可睿

本發(fā)明公開了一種吸液針清洗系統(tǒng)，包括：基座，設(shè)置有開口朝上的清洗槽腔，所述清洗槽腔中具有多個清洗磁珠；升降驅(qū)動裝置，所述升降驅(qū)動裝置安裝在所述基座上且其升降端具有用于固定吸液針的針管固定結(jié)構(gòu)，所述針管固定結(jié)構(gòu)位于所述清洗槽腔正上方；永磁體，能夠與所述清洗磁珠磁吸；磁體驅(qū)動裝置，用于驅(qū)動所述永磁體相對所述清洗槽腔遠近移動。通過磁體驅(qū)動裝置和升降驅(qū)動裝置的啟動，使得清洗磁珠相對吸液針的內(nèi)壁以及外壁靠近和遠離，且上下方向相對移動，清洗磁珠對吸液針內(nèi)壁外壁摩擦，進而實現(xiàn)擦除效果，隨著活動次數(shù)多，且清洗磁珠的數(shù)量較多，使得實現(xiàn)吸液針內(nèi)壁和外壁的整體清洗效果。可以有效地解決目前吸液針清洗效果不好的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及針管清洗技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種吸液針清洗系統(tǒng)。

背景技術(shù)

目前市面上傳統(tǒng)的全自動免疫分析儀(或者全自動熒光PCR)檢測平臺的清洗機構(gòu)在交叉污染特別是吸液針在吸取后的清洗方面比較繁瑣，需要清洗幾十次，浪費了大量的時間和清洗液，由于在相關(guān)器件(清洗泵和液路)的精度存在誤差，使得檢測結(jié)果存在較大的偏差(特別是傳染性項目的檢測尤其明顯)。

傳統(tǒng)的清洗機構(gòu)基本上是采用泵的壓力驅(qū)動清洗液體清洗吸液針里面的殘余物，但是，由于吸液針的結(jié)構(gòu)特征及泵體比較遠，導致傳統(tǒng)方式的清洗效果欠佳。

綜上所述，如何有效地解決吸液針清洗效果不好的問題，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種吸液針清洗系統(tǒng)，該吸液針清洗系統(tǒng)可以有效地解決吸液針清洗效果不好的問題。

為了達到上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種吸液針清洗系統(tǒng)，包括：

基座，設(shè)置有開口朝上的清洗槽腔，所述清洗槽腔中具有多個清洗磁珠；

升降驅(qū)動裝置，所述升降驅(qū)動裝置安裝在所述基座上且其升降端具有用于固定吸液針的針管固定結(jié)構(gòu)，所述針管固定結(jié)構(gòu)位于所述清洗槽腔正上方；

永磁體，能夠與所述清洗磁珠磁吸；

磁體驅(qū)動裝置，用于驅(qū)動所述永磁體相對所述清洗槽腔遠近移動。

在該吸液針清洗系統(tǒng)中，在使用時，將對應(yīng)的吸液針固定安裝在針管固定結(jié)構(gòu)上，且使清洗槽腔中具有清洗液，然后啟動升降驅(qū)動裝置以驅(qū)動吸液針升降移動，且啟動磁體驅(qū)動裝置，以驅(qū)動永磁體相對清洗槽腔遠近移動，以使得內(nèi)部清洗磁珠活動。通過磁體驅(qū)動裝置和升降驅(qū)動裝置的啟動，使得清洗磁珠相對吸液針的內(nèi)壁以及外壁靠近和遠離，且上下方向相對移動，清洗磁珠對吸液針內(nèi)壁外壁摩擦，進而實現(xiàn)擦除效果，隨著活動次數(shù)多，且清洗磁珠的數(shù)量較多，使得吸液針內(nèi)壁外壁各處均能夠與對應(yīng)清洗磁珠接觸且相對摩擦，進而實現(xiàn)吸液針內(nèi)壁和外壁的整體清洗效果，且摩擦力度大，保證清洗效果。綜上所述，該吸液針清洗系統(tǒng)能夠有效地解決目前吸液針清洗效果不好的問題。

優(yōu)選地，所述清洗槽腔的槽口處設(shè)置有密封塞，所述密封塞中部具有上下延伸且用于所述吸液針穿過的針穿孔。

優(yōu)選地，所述密封塞為彈性體，所述針穿孔的孔壁開設(shè)有多個凹槽，以形成毛刷結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述針穿孔的孔壁沿上下方向開設(shè)有多個沿周向并列設(shè)置的所述凹槽；所述凹槽的橫截面呈三角型，所述密封塞上側(cè)設(shè)置有利于彈性變形的變形槽，所述密封塞為PDMS塞子。

優(yōu)選地，所述永磁體具有能夠包圍所述清洗槽腔的配合凹槽。

優(yōu)選地，所述基座包括具有所述清洗槽腔的清洗體，所述清洗體一側(cè)具有凸出且上下延伸的凸柱部，所述清洗槽腔位于所述凸柱部中，所述配合凹槽與所述凸柱部配合設(shè)置。

優(yōu)選地，所述清洗體對應(yīng)一側(cè)布置有多個所述凸柱部，各個所述凸柱部分別對應(yīng)設(shè)置有所述清洗槽腔，所述永磁體對應(yīng)設(shè)置有多個所述配合凹槽。