[發明專利]一種柔性膜制作方法有效
| 申請號: | 202110677257.0 | 申請日: | 2021-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN113463048B | 公開(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發明(設計)人: | 朱磊;周健;張繼凡 | 申請(專利權)人: | 安徽立光電子材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/10;C23C14/20 |
| 代理公司: | 北京市隆安律師事務所 11323 | 代理人: | 權鮮枝 |
| 地址: | 239200 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 柔性 制作方法 | ||
1.一種用于制備柔性膜的方法,其特征在于,步驟如下:
(1)準備PET膜,所述PET膜的厚度為188μm;
(2)將PET膜安裝在磁控濺射鍍膜機的冷鼓上,PET膜的硬化面與冷鼓接觸,向冷鼓內通入-10℃冷凍液并進行循環,對PET膜材進行冷卻,抽真空至真空度小于8×10-4?Pa,通入氬氣,保持真空度為4×10-1Pa;
(3)采用陽極層離子源對PET膜的非硬化面進行轟擊,保持真空度4×10-1Pa,控制離子源電壓1500V,電流0.2A;
(4)將經過步驟(3)處理后的PET膜放入至磁控濺射儀器內,保持真空度4×10-1Pa,中頻電壓500V,在PET膜的非硬化面上采用中頻濺射的方式鍍制無氧硅膜層,所述無氧硅膜層的厚度為2nm;
(5)開啟磁控濺射靶材,采用直流電源在經過步驟(4)處理后的無氧硅膜層上沉積銦錫合金層,所述銦錫合金層的厚度為40nm,銦錫合金層中銦和錫的質量比為3:7;直流電源的電流為5A;
(6)采用中頻磁控濺射方式,在經過步驟(5)處理后的銦錫合金層上沉積二氧化硅層,所述二氧化硅層的厚度為10nm,得到柔性膜。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(6)中,中頻電源的功率為10kw。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟(6)中,制備得到的PET仿金屬質感柔性膜的電阻值≥2000MΩ。
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