[發明專利]一種光控可逆疏水件及其制備方法

有效

• 申請號: 202110676208.5
• 申請日: 2021-06-18
• 公開（公告）號: CN113564528B
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發明（設計）人: 周嘉;劉恩清;劉安
• 申請（專利權）人: 復旦大學
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/28;C23C14/35;C23C14/58;C23C16/40;C23C16/56;C23C28/04;C09D7/61
• 代理公司: 上海德昭知識產權代理有限公司 31204
• 代理人: 郁旦蓉

1.一種光控可逆疏水件，特征在于，包括：

襯底層；

過渡層，形成在所述襯底層的至少一個表面上；

多個微納結構，以矩陣形式排列在所述過渡層的表面；以及

其中，每個所述微納結構包括：

氧化釩部，具有氧化釩層，用于吸收光，形成在所述過渡層上并向遠離所述襯底層的方向延伸；

光化學增強部，具有光化學增強層，用于增強對光的吸收，形成在所述氧化釩部的表面，并向遠離所述襯底層的方向延伸。

2.根據權利要求1所述的光控可逆疏水件，其特征在于：

其中，所述微納結構的外形呈圓柱狀或方柱狀，高度為1μm～10μm、間距為1μm～20μm，

所述氧化釩部的厚度為0.1μm～1μm，所述光化學增強部的厚度為0～2μm，

所述過渡層的材質為二氧化硅，厚度為80nm～120nm。

3.根據權利要求2所述的光控可逆疏水件，其特征在于：

其中，所述微納結構的外形呈圓柱狀，直徑為2μm，間距為2μm。

4.根據權利要求1所述的光控可逆疏水件，其特征在于：

其中，所述微納結構為方片狀結構，尺寸為10μm～100μm、厚度為0.1μm～0.5μm。

5.根據權利要求1所述的光控可逆疏水件，其特征在于，還包括：

多個應力件，一一對應設置在所述微納結構上，從所述氧化釩部的表面延伸至光化學增強部的表面，

所述應力件的材質為鉻、鋁或鉑金，厚度為20nm～30nm。

6.一種光控可逆疏水件的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1、以清潔、干燥的硅片作為襯底層，

步驟2、通過化學氣相沉積法、射頻磁控濺射法或脈沖激光沉積法任意一種方法，在所述襯底層的上表面沉積一層過渡層；

步驟3、通過磁控濺射法、氣相運輸沉積法或脈沖激光沉積法任意一種方法，在所述過渡層的表面沉積一層氧化釩層；

步驟3、在所述氧化釩層的表面涂一層光化學增強層；

步驟4、對所述氧化釩層和光化學增強層進行蝕刻，形成陣列分布的微納結構。