[發(fā)明專利]一種微透鏡陣列面形的單點(diǎn)光學(xué)測(cè)量路徑生成方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110674765.3 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113251949B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李澤驍;張效棟;房豐洲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三代光學(xué)科技(天津)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B11/24 | 分類號(hào): | G01B11/24;G01M11/02;G02B3/00 |
| 代理公司: | 北京沁優(yōu)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11684 | 代理人: | 周慶路 |
| 地址: | 300000 天津市濱海新區(qū)濱海*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 透鏡 陣列 單點(diǎn) 光學(xué) 測(cè)量 路徑 生成 方法 | ||
本發(fā)明涉及微透鏡面型測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種微透鏡陣列面形的單點(diǎn)光學(xué)測(cè)量路徑生成方法,包括如下步驟:1)選取具有待測(cè)表面全域的弧矢傾斜角不大于單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭的角度特性的θmax的微透鏡陣列;2)規(guī)劃所述待測(cè)表面的采樣路徑,并獲取采樣路徑上多組測(cè)量點(diǎn)的坐標(biāo);3)將各組所述測(cè)量點(diǎn)的坐標(biāo)轉(zhuǎn)化為測(cè)量系統(tǒng)中各軸系的運(yùn)動(dòng)坐標(biāo)。本發(fā)明的方法通過(guò)提前判斷選取具有待測(cè)表面全域的弧矢傾斜角不大于單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭的角度特性的θmax的微透鏡陣列進(jìn)行測(cè)量,由此可以避免將待測(cè)表面的弧矢傾斜角不符合單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭測(cè)量要求的微透鏡陣列放入到本測(cè)量系統(tǒng)中進(jìn)行測(cè)量,進(jìn)而避免無(wú)效測(cè)量的發(fā)生。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及微透鏡面型測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種微透鏡陣列面形的單點(diǎn)光學(xué)測(cè)量路徑生成方法。
背景技術(shù)
微透鏡陣列是一種由一系列孔徑在微米至毫米級(jí)的微小型透鏡按照一定規(guī)律排列而成的光學(xué)復(fù)雜曲面。具有尺寸小、集成度高、便于制造、傳輸損耗小、有特殊功能等優(yōu)點(diǎn),其應(yīng)用包括光場(chǎng)相機(jī),大視場(chǎng)成像系統(tǒng),光電探測(cè)及傳感,光線均勻,光纖掃描,光刻等方面。對(duì)比傳統(tǒng)透鏡及反射鏡具有更優(yōu)越的性能。對(duì)微透鏡陣列面形的測(cè)量對(duì)于其本身的制造及性能保障具有關(guān)鍵作用。
目前對(duì)于微透鏡陣列的面形測(cè)量方式,主要包括以下幾種:
方式1:采用接觸式探針對(duì)微透鏡陣列各單元面形進(jìn)行接觸式測(cè)量,該方法簡(jiǎn)單有效,但會(huì)劃傷表面,并且在微透鏡陣列單元銜接處測(cè)量失效;(Gao H M, Zhang X D, FangF Z. Study on error analysis and accuracy improvement for aspheric profilemeasurement[J]. Measurement Science and Technology, 2017, 28(6): 065004.);
方式2:采用白光干涉方法對(duì)微透鏡陣列表面直接進(jìn)行面干涉測(cè)量,該方法可獲得微透鏡陣列表面三維信息,但該方法視場(chǎng)小,難以對(duì)微透鏡陣列表面全區(qū)域進(jìn)行測(cè)量(PhanN N, Le H H, Duong D C. Surface curvature measurement of microlenses using awhite-light interference microscope and fast geometric fit algorithm[J].Optical Engineering, 2019, 58(12): 124105.);
方式3:采用單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭對(duì)微透鏡陣列各單元面形進(jìn)行非接觸式點(diǎn)測(cè)量,利用測(cè)量系統(tǒng)的軸系運(yùn)動(dòng)完成對(duì)微透鏡陣列各個(gè)區(qū)域的掃描測(cè)量。
采用單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭進(jìn)行測(cè)量是目前微透鏡陣列等復(fù)雜曲面面形測(cè)量的有效方法,然而在該方法中,單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭面臨著工作距離的限制,同時(shí)單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭具有一定的角度特性,該角度特性具體表現(xiàn)為使得單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭能夠準(zhǔn)確測(cè)量表面的測(cè)量點(diǎn)到測(cè)頭出瞳距離的情況下,測(cè)頭方向與表面法矢所允許的夾角不能超過(guò)一定閾值。但是微透鏡陣列表面起伏復(fù)雜多變,斜率方向變化大,因此需要設(shè)置合適的測(cè)量路徑。目前的主要測(cè)量路徑構(gòu)建方法按照相關(guān)系統(tǒng)分類可包括柵格線掃描型以及螺旋線型。
然而,現(xiàn)有螺旋線型的測(cè)量方式中會(huì)出現(xiàn)大量的由于不符合單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭工作特性的要求而產(chǎn)生的無(wú)效測(cè)量。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種微透鏡陣列面形的單點(diǎn)光學(xué)測(cè)量路徑生成方法,該方法根據(jù)單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭的工作距離及角度特性和微透鏡陣列面形特點(diǎn),將微透鏡陣列測(cè)量控制點(diǎn)與測(cè)量裝置軸系坐標(biāo)相聯(lián)立,以生成適合于微透鏡陣列的測(cè)量路徑。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
一種微透鏡陣列面形的單點(diǎn)光學(xué)測(cè)量路徑生成方法,包括如下步驟:
1)選取具有待測(cè)表面全域的弧矢傾斜角不大于單點(diǎn)光學(xué)測(cè)頭的角度特性的θmax的微透鏡陣列;
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