[發(fā)明專利]芯片烘烤固化方法及芯片裝片方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110673807.1 | 申請日: | 2021-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN113539895A | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 程仕紅;栗偉斌;孔曉琳;賴辰辰;甘榮武;張方思亮;李安平 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳米飛泰克科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/56 |
| 代理公司: | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414 | 代理人: | 趙智博 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)寶龍*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 芯片 烘烤 固化 方法 | ||
1.一種芯片烘烤固化方法,其特征在于,利用具有充氮閥及排風(fēng)機(jī)的烘箱來烘烤芯片并固化芯片上的膠水,所述芯片烘烤固化方法包括:
在加熱揮發(fā)段,加熱所述烘箱,使所述烘箱內(nèi)溫度升至第一溫度,并使所述烘箱在第一時(shí)長內(nèi)保持所述第一溫度,其中,在所述加熱揮發(fā)段,開啟所述排風(fēng)機(jī)及所述充氮閥;
在加熱固化段,關(guān)閉所述排風(fēng)機(jī),加熱所述烘箱,使所述烘箱內(nèi)溫度升至第二溫度,并使所述烘箱在第二時(shí)長內(nèi)保持所述第二溫度,其中,第二溫度為預(yù)設(shè)的膠水固化溫度,第二時(shí)長為所述膠水在所述第二溫度下固化所需的時(shí)間;
在冷卻降溫段,冷卻所述烘箱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第一溫度的范圍為95℃-105℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,加熱所述烘箱,使所述烘箱內(nèi)溫度升至第一溫度所需的時(shí)間為10min-15min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第一時(shí)長為35min-45min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述充氮閥的充氮流量為60L/MIN-80L/MIN。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述加熱固化段包括第一恒溫區(qū)間、升溫區(qū)間和第二恒溫區(qū)間;在所述第一恒溫區(qū)間,關(guān)閉所述排風(fēng)機(jī)并使所述烘箱保持所述第一溫度;在所述升溫區(qū)間,加熱所述烘箱,使所述烘箱內(nèi)溫度升至所述第二溫度,所述升溫區(qū)間的時(shí)長為30min-40min;在所述第二恒溫區(qū)間,使所述烘箱保持所述第二溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述冷卻所述烘箱包括:冷卻所述烘箱,使所述烘箱內(nèi)溫度降低至第三溫度;開啟所述排風(fēng)機(jī),冷卻所述烘箱,使所述烘箱內(nèi)溫度降低至第四溫度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第三溫度的范圍為80℃-120℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第四溫度的范圍為80℃-85℃。
10.一種芯片裝片方法,其特征在于,所述芯片裝片方法包括:
利用膠水將芯片貼附于框架上;
采用如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的芯片烘烤固化方法烘烤所述芯片,使所述膠水固化。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





