[發(fā)明專(zhuān)利]一種鉍電鍍液及電鍍制備鉍薄膜的方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110673801.4
• 申請(qǐng)日: 2021-06-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113403653A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳建;王雪深;李勁勁;徐驍龍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院
• 主分類(lèi)號(hào): C25D3/54
• 分類(lèi)號(hào): C25D3/54;C25D7/12
• 代理公司: 成都宏田知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51337
• 代理人: 菅秀君

1.一種鉍電鍍液，其特征在于：包括導(dǎo)電鹽0.5-2.0mol/L、硝酸0.5-3.0mol/L、甘油0.50-3.0mol/L、絡(luò)合劑0.20-1.0mol/L、五水硝酸鉍0.05-0.50mol/L。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍液，其特征在于：所述導(dǎo)電鹽為氫氧化鉀、硝酸鉀或氯化鉀中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍液，其特征在于：所述絡(luò)合劑為L(zhǎng)-酒石酸、檸檬酸鉀和三乙醇胺中的至少一種。

4.一種電鍍制備鉍薄膜的方法，該方法包括將硅片置于電鍍液中作為陰極，鈦鉑金置于電鍍液中作為陽(yáng)極，然后接通直流電源，其特征在于，使用所述電鍍液為權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的電鍍液制備鉍薄膜，以沉積陰極種子層的硅片為陰極，鈦鉑金為陽(yáng)極進(jìn)行電鍍制得鉍薄膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍制備鉍薄膜的方法，其特征在于，所述陰極種子層的制備方法包括在硅片上沉積3-20nm Ti后繼續(xù)沉積20-200nm Au制備獲得沉積陰極種子層的硅片。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍制備鉍薄膜的方法，其特征在于，電流密度為0.5-20mA/cm²，電鍍液溫度為20-70℃，pH值為0-1.0。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍制備鉍薄膜的方法，其特征在于，電鍍方式采用脈沖法或恒電流法進(jìn)行電鍍。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍制備鉍薄膜的方法，其特征在于，所述陰極與陽(yáng)極之間的間隔距離為5-15cm。