[發明專利]基于端口受控哈密頓原理的耦合三容液位控制方法有效
| 申請號: | 202110671859.5 | 申請日: | 2021-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN113342075B | 公開(公告)日: | 2023-08-18 |
| 發明(設計)人: | 許濤;于海生;于金鵬 | 申請(專利權)人: | 青島大學 |
| 主分類號: | G05D9/12 | 分類號: | G05D9/12 |
| 代理公司: | 青島發思特專利商標代理有限公司 37212 | 代理人: | 宮兆儉 |
| 地址: | 266000 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 端口 受控 哈密 原理 耦合 三容液位 控制 方法 | ||
1.一種基于端口受控哈密頓原理的耦合三容液位控制方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1:三容液位系統模型的構建:三容液位系統模型包括自上而下設置的罐1、罐2和罐3、儲液罐,其中:罐1的液體通過閥mv1流入罐2,罐2和罐3的液體分別通過閥mv2和閥mv3流到儲液罐;泵1通過手動閥mv4向罐1供液,通過閥mv6向罐3供液;泵2通過閥mv5向罐2供液,模型表示為:
式中:hi(t)為t時刻罐i的液位高度;Ai為罐i的橫截面面積,i=1,2,3;aj為手動閥mvj的橫截面面積,可手動調節,j=1,2,3,4,5,6;g為重力加速度;q1(t)和q2(t)分別為通過泵1和泵2供液的流速;
系統的狀態和輸入分別定義為:
x(t)=[x1(t),x2(t),x3(t)]T=[h1(t),h2(t),h3(t)]T,u(t)=[u1(t),u2(t)]T=[q1(t),q2(t)]T??(2)
式中:x(t)為t時刻系統的狀態變量,即液罐的液位;T表示向量的轉置;u(t)為t時刻系統的輸入;
根據公式(1)和(2),三容液位系統的數學模型表示為:
式中:uj,j=1,2表示由控制律產生的電控泵j的期望輸出流量;
S2:三容液位系統PCH模型的構建:根據S1給出的三容液位控制系統,選擇哈密頓函數H(x)為:
則:
式中:為哈密頓函數H(x)的偏導數向量;g(x)為端口連接矩陣;
式中:反對稱矩陣J(x)為互聯矩陣;半正定對稱矩陣R(x)為阻尼矩陣;
得到三容液位控制系統的端口受控哈密頓模型;
S3:三容液位控制原理的分析:包括如下小步:
S31:參數確定且無擾動情況:因為所有參數都是精確,基于PCH方法,從而得到如下基本PCH控制器;
基本PCH控制器為:
式中:uPCH為PCH控制器;
其中:
Jd(x)=J(x)+Ja(x)=-JdT(x)??(8)
式中:Jd(x)為期望的互聯矩陣;J(x)為互聯矩陣;Ja(x)為前兩者之差;
Rd(x)=R(x)+Ra(x)=RdT(x)≥0??(9)
式中:Rd(x)為期望的阻尼矩陣;R(x)為阻尼矩陣;Ra(x)為前兩者之差;
選擇Hd(x)為:
式中:Hd(x)為期望的哈密頓函數;ki為正實數;xi為罐i的液位高度;
則:
式中:為期望的哈密頓函數的偏導數向量;ki為正實數;xi0為期望的罐i的液位高度;
與二容液位系統不同,此處省去中間環節Ja(x),Ra(x),而直接令:
式中:jdik,rdl(i=1,2;k=2,3;l=1,2,3)為待配置實參;
根據匹配方程,得到:
式中:si見公式15-17;
其中:
s2=a6A1(jd12η2-rd1η1)??(16)
s3=a4A3(jd23η2+rd3η3)??(17)
因此,一旦確定jd12,jd23,rd1,rd2,rd3根據上式,便得到精確的jd13的解;
其中:
其中:
在控制器(19)和(20)作用下,三容液位系統的穩定性證明如二容液位系統的證明;
S32:參數已知情況下L2增益擾動補償控制:在此情況下,為系統添加一個突然的擾動;
S33:參數未知情況下自適應L2增益擾動補償控制:得到自適應L2增益擾動補償控制律;
S4:三容液位系統的仿真:包括如下步驟:
S41:PCH控制:在控制器u1(19)和控制器u2(20)的作用下,液位很快達到目標值并在平衡點附近保持穩定;
S42:L2控制:液位擾動被加入罐2則罐1的液位幾乎沒有明顯變化,而液罐1存在擾動的情況下,則包括兩種方式:
方式一:將控制器中設置為零,即罐1的液位不再作為控制目標;
方式二:將控制器中的k3數值設置為遠大于k1;
S43:自適應L2控制:當系統參數發生變化時,在PCH控制下液位無法到達目標平衡點,而在L2控制和自適應L2控制下,系統均利用更短的設定時間和更小的超調到達目標平衡點。
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