[發明專利]一種高性能彩色硅基OLED及其制備方法在審

申請號：	202110671618.0	申請日：	2021-06-17
公開（公告）號：	CN113410412A	公開（公告）日：	2021-09-17
發明（設計）人：	呂磊;李維維;許嵩;劉曉佳;劉勝芳;趙錚濤	申請（專利權）人：	安徽熙泰智能科技有限公司
主分類號：	H01L51/52	分類號：	H01L51/52;H01L51/56
代理公司：	蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107	代理人：	曹政
地址：	241000 安徽省蕪湖市蕪湖長江***	國省代碼：	安徽;34
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種性能彩色 oled 及其制備方法
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【權利要求書】：

1.一種高性能彩色硅基OLED，其特征在于，具有：

從上往下依次設置的陰極層、OLED有機層、陽極層和反射層；

所述反射層包括一系列的不同的折射率的膜層或者不同厚度的膜層。

2.一種如權利要求1所述的高性能彩色硅基OLED的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)OLED有機層的總厚度d＝120nm，OLED有機層的折射率n＝1.8，令R的波長λ_R＝610nm，G的波長λ_G＝530nm，令B的波長λ_B＝460nm，忽略光在陰極和陽極界面的相移；

2)通過OLED微腔計算公式:m為正整數，其中n_i為OLED有機層的折射率，d_i為有機層的厚度，φ為光在陰極和陽極表面反射相移，λ為微腔諧振加強波長，△n＝n_H-n_L，其中n_H是組成DBR-布拉格反射鏡的高折射膜層的折射率，RGB各自DBR結構中高折射率膜層的折射率分別記為n_RH、n_GH、n_BH；n_L是組成DBR的低折射膜層的折射率，同理可依次記為n_RL、n_GL、n_BL；d_H是組成DBR的高折射膜層的厚度，同理可依次記為d_RH、d_GH、d_BH；d_L是組成DBR的低折射膜層的厚度，同理可依次記為d_RL、d_GL、d_BL；m為發射模的級數，也稱為微腔的階數，只有當微腔的光學厚度和波長滿足上述關系的光才會被加強；

3)結合上述假設：OLED有機層的總厚度d＝120nm，有機層的折射率n＝1.8，令R的波長λ_R＝610nm，G的波長λ_G＝530nm，令B的波長λ_B＝460nm，忽略光在陰極和陽極界面的相移，計算得到不同階數微腔條件下RGB對應的DBR微結構關鍵參數

4)通過得到的不同階數微腔條件下RGB對用的D值，為了進一步得DBR微結構中膜層的厚度和折射率的值，選取m＝2條件下的D值，得到以下方程組：

5)為了便于得到準確的數據和工藝實現的可行性，對RGB各自對應的DBR微結構進行選取；

6)不同折射率膜層的材質包括ITO-n＝2.0、SIO-n＝1.5、SIN-n＝1.86、ALO-n＝1.6、IZO-n＝1.8，膜層厚度在1nm-100nm范圍內選擇；

7)RGB像素對應的各自的DBR微結構通過曝光顯影刻蝕的圖形化工藝實現。

3.如權利要求2所述的高性能彩色硅基OLED的制備方法，其特征在于，上述第5)步中，有兩種方案，方案1：RGB各自對應的DBR微結構中選用的膜層材質相同，即n_RH＝n_GH＝n_BH，n_RL＝n_GL＝n_BL，此時可通過上述方程組計算得到高折射率膜層和低折射率膜層的厚度關系，進而結合實際工藝可分別選取各自的厚度；方案2：RGB各自對應的DBR微結構中選用的膜層厚度相同，即d_RH＝d_GH＝d_BH，d_RL＝d_GL＝d_BL,通過上述方程組計算得到高折射率膜層和低折射率膜層的折射率之間關系，進而結合實際工藝選取對應的材料。