[發(fā)明專利]電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110670228.1
• 申請日: 2021-06-17
• 公開（公告）號: CN113422891B
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 衛(wèi)通通
• 申請（專利權(quán)）人: 維沃移動通信（杭州）有限公司
• 主分類號: H04N5/225
• 分類號: H04N5/225
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 施敬勃

本申請公開一種電子設(shè)備，包括殼體、攝像頭和保護鏡片組件，其中，殼體設(shè)有內(nèi)腔和與內(nèi)腔連通的通孔；攝像頭設(shè)于內(nèi)腔中，攝像頭設(shè)有導(dǎo)向部和限位部，導(dǎo)向部和限位部在攝像頭的光軸方向依次設(shè)置；保護鏡片組件可移動地設(shè)于通孔，保護鏡片組件可沿導(dǎo)向部在光軸方向至少部分伸出殼體之外，以使攝像頭的鏡頭與保護鏡片組件之間的距離增大；保護鏡片組件可沿導(dǎo)向部移動以與限位部限位配合，攝像頭可隨保護鏡片組件沿光軸方向靠近通孔，以使攝像頭背向鏡頭的底面與殼體之間的距離增大。本申請可解決電子設(shè)備中攝像頭占用空間較大的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及通信設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電子設(shè)備。

背景技術(shù)

隨著用戶需求的提升，電子設(shè)備上配置的攝像頭的性能持續(xù)在優(yōu)化。為了實現(xiàn)較好的拍攝效果，攝像頭的像素越來越高，攝像頭本身的體積越來越大，而且使用過程中，用戶通常需要對攝像頭進行調(diào)節(jié)以實現(xiàn)對焦和防抖，需要預(yù)留調(diào)節(jié)空間，因此，高像素和良好的對焦防抖功能導(dǎo)致攝像頭占用的空間越來越大，攝像頭處的凸包的高度越來越大，嚴重影響電子設(shè)備的外觀性能，且影響電子設(shè)備的握持體驗。

發(fā)明內(nèi)容

本申請公開一種電子設(shè)備，以解決電子設(shè)備中攝像頭占用空間較大的問題。

為了解決上述問題，本申請采用下述技術(shù)方案：

一種電子設(shè)備，包括殼體、攝像頭和保護鏡片組件，其中，所述殼體設(shè)有內(nèi)腔和與所述內(nèi)腔連通的通孔；

所述攝像頭設(shè)于所述內(nèi)腔中，所述攝像頭設(shè)有導(dǎo)向部和限位部，所述導(dǎo)向部和所述限位部在所述攝像頭的光軸方向依次設(shè)置；

所述保護鏡片組件可移動地設(shè)于所述通孔，所述保護鏡片組件可沿所述導(dǎo)向部在所述光軸方向至少部分伸出所述殼體之外，以使所述攝像頭的鏡頭與所述保護鏡片組件之間的距離增大；

所述保護鏡片組件可沿所述導(dǎo)向部移動以與所述限位部限位配合，所述攝像頭可隨所述保護鏡片組件沿所述光軸方向靠近所述通孔，以使所述攝像頭背向所述鏡頭的底面與所述殼體之間的距離增大。

本申請采用的技術(shù)方案能夠達到以下有益效果：

采用本申請中的電子設(shè)備，保護鏡片組件可移動地設(shè)于通孔，在電子設(shè)備使用攝像頭時，保護鏡片組件可沿導(dǎo)向部在攝像頭的光軸方向至少部分伸出殼體之外，以使攝像頭的鏡頭與保護鏡片組件之間的距離增大，從而增大攝像頭的鏡頭與保護鏡片組件之間的對焦防抖空間，保護鏡片組件可沿導(dǎo)向部移動以與限位部限位配合，在保護鏡片組件與限位部限位配合的情況下，攝像頭可隨保護鏡片組件沿攝像頭的光軸方向靠近通孔，以使攝像頭背向鏡頭的底面與殼體之間的距離增大，從而增大攝像頭背向鏡頭的底面與殼體之間的對焦防抖空間，攝像頭的鏡頭與保護鏡片組件之間的對焦防抖空間和攝像頭背向鏡頭的底面與殼體之間的對焦防抖空間均增大，以提高攝像頭的拍攝性能，在電子設(shè)備不使用攝像頭時，保護鏡片組件可以回縮，攝像頭的鏡頭與保護鏡片組件之間的距離和攝像頭背向鏡頭的底面與殼體之間距離均減小，從而減小攝像頭的占用空間。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請，并不構(gòu)成對本申請的不當限定。在附圖中：

圖1為本申請實施例中攝像頭和保護鏡片組件的結(jié)構(gòu)分解圖；

圖2為本申請實施例中電子設(shè)備的部分剖視圖；

圖3為本申請實施例中電子設(shè)備另一狀態(tài)的部分剖視圖；

圖4為本申請實施例中電子設(shè)備的又一狀態(tài)的部分剖視圖；

圖5為本申請實施例中電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標記說明：

100-殼體、110-內(nèi)腔、120-通孔、