[發明專利]一種新型光學加壓無研具拋光裝置

在審

• 申請號: 202110665305.4
• 申請日: 2021-06-16
• 公開（公告）號: CN113910004A
• 公開（公告）日: 2022-01-11
• 發明（設計）人: 徐思華;曾德;于新辰;嚴萬洪;夏先軍;張潤紅;袁斌
• 申請（專利權）人: 徐德富
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種新型光學加壓無研具拋光裝置，其特征在于，包括電機驅動模塊、密封罐模塊、加壓模塊，所述加壓模塊通過軟管與所述密封罐模塊相連接；

所述電機驅動模塊包括電機、磁力耦合器、旋轉盤、旋轉支架、工件安裝盤以及保形填平板，所述電機驅動模塊用于驅動被加工件相對于所述密封罐模塊做旋轉運動；

所述電機包括一個公轉電機和至少一個自轉電機，所述磁力耦合器包括一個公轉磁力耦合器和至少一個自轉磁力耦合器，所述公轉電機與所述公轉磁力耦合器下半部分對應連接，所述自轉電機與所述自轉磁力耦合器的下半部分一一對應連接；

所述公轉磁力耦合器的下半部分固定安裝在所述旋轉盤的中心，所述公轉磁力耦合器上半部分的轉子與所述旋轉支架相連接，所述公轉磁力耦合器上半部分的定子固定安裝于所述密封罐體底部；

所述自轉磁力耦合器上半部分的轉子與所述工件安裝盤相連接，所述自轉磁力耦合器上半部分的定子固定安裝于所述旋轉支架上；

所述保形填平板固定安裝于所述旋轉支架上，用于抑制所述拋光液在被加工件表面產生亂流運動；

所述密封罐模塊包括密封罐體、密封蓋、止流板、磁場生成裝置、過濾器以及密封罐體內部的拋光液，所述拋光液為具有磁流變性質的拋光液；

所述磁場生成裝置與所述過濾器均安裝于所述密封罐體上，對被加工件的拋光加工發生在所述密封罐模塊內；

所述止流板安裝于所述密封蓋內側，所述止流板用于抑制所述拋光液相對于所述密封罐體的流動；

所述加壓模塊包括軟管、壓力生成器，所述軟管的兩端分別于與所述壓力生成器以及所述密封蓋上的進氣裝置相連接，所述加壓模塊為所述密封罐模塊提供所需壓力。

2.根據權利要求1所述的一種新型光學加壓無研具拋光裝置，其特征在于：所述自轉電機分布在所述旋轉盤外圍，并通過自轉電機固定板與所述旋轉盤保持相對固定。

3.根據權利要求1所述的一種新型光學加壓無研具拋光裝置，其特征在于：所述公轉磁力耦合器以及所述自轉磁力耦合器的上下部分均位于同一軸線上，且均不穿過所述密封罐體的底部，并與所述密封罐體的底部保持微小的間隙。

4.根據權利要求1所述的一種新型光學加壓無研具拋光裝置，其特征在于：所述磁場生成裝置沿軸向分段安裝在所述密封罐體上，用于控制所述密封罐體內的磁場分布和磁場強度。

5.根據權利要求1所述的一種新型光學加壓無研具拋光裝置，其特征在于：所述公轉電機固定安裝于底板上，所述底板通過支架與密封罐模塊保持相對固定。

6.根據權利要求1所述的一種新型光學加壓無研具拋光裝置，其特征在于：所述保形填平板的外形同被加工件與所述工件安裝盤形成的高低落差和空隙相適應，用于對所述高低落差和空隙進行填充。