[發明專利]一種動態氣體隔離裝置以及極紫外光刻設備在審
| 申請號： | 202110663239.7 | 申請日： | 2021-06-15 |
| 公開（公告）號： | CN113419406A | 公開（公告）日： | 2021-09-21 |
| 發明（設計）人： | 孫家政;王魁波;丁金濱;吳曉斌;馬翔宇;季藝雯 | 申請（專利權）人： | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 周天宇 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 動態 氣體 隔離 裝置 以及 紫外 光刻 設備 | ||
1.一種動態氣體隔離裝置，其特征在于，包括：
隔離管道，包括呈間隔設置的擴張管道段以及等截面管道段，所述擴張管道段的截面寬度沿遠離所述等截面管道段的方向呈逐漸增大設置，所述等截面管道段的截面寬度沿遠離所述擴張管道段的方向保持不變，所述擴張管道段與所述等截面管道段之間貫設有進氣口；以及，
供氣裝置，包括高純氣源和連接管道，所述連接管道的兩端分別連通至所述進氣口以及所述高純氣源；
其中，所述擴張管道段連通至高清潔腔內，所述等截面管道段連通至次清潔腔內。
2.如權利要求1所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述隔離管道還包括設于所述等截面管道段端部的緩沖段，所述緩沖段沿遠離所述等截面管道段的方向，截面寬度呈逐漸增大設置。
3.如權利要求1所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述連接管道內設置有加速結構，所述加速結構用以增加所述連接管道內的氣體流速。
4.如權利要求3所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述連接管道包括拉瓦爾管道段，所述拉瓦爾管道段中間位置形成有一窄喉，所述拉瓦爾管道段處于所述窄喉兩側的截面直徑均沿遠離所述窄喉的方向呈逐漸增大設置，所述拉瓦爾管道段的兩端分別連通至所述高純氣源與所述進氣口處，所述拉瓦爾管道段形成所述加速結構。
5.如權利要求4所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述連接管道還包括交接段，所述交接段設于所述拉瓦爾管道段與所述進氣口之間，所述交接段的截面直徑沿遠離所述拉瓦爾管道段的方向呈逐漸增大設置。
6.如權利要求5所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述交接段的內側壁呈弧形設置。
7.如權利要求1所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述進氣口設置有多個，多個所述進氣口沿所述隔離管道的周向間隔設置；
所述供氣裝置對應所述進氣口設置有多個。
8.如權利要求7所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述進氣口設置有兩個，兩個所述進氣口沿所述隔離管道的軸線呈對稱設置；
所述供氣裝置對應所述進氣口設置有兩個。
9.如權利要求1所述的動態氣體隔離裝置，其特征在于，所述隔離管道的截面呈圓形或矩形設置。
10.一種極紫外光刻設備，其特征在于，包括：
高清潔腔；
次清潔腔，內設置有放氣源；以及，
動態氣體隔離裝置，設于所述高清潔腔與所述次清潔腔之間，所述動態氣體隔離裝置為如權利要求1至9中任意一項所述的動態氣體隔離裝置。
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