[發明專利]清洗系統及其使用方法

在審

• 申請號: 202110662527.0
• 申請日: 2021-06-15
• 公開（公告）號: CN113798282A
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: O·普拉卡什;S·特里帕蒂;M·薩胡;K·坎德哈撒米;C·L·庫佩爾
• 申請（專利權）人: 波音公司
• 主分類號: B08B9/023
• 分類號: B08B9/023;B08B9/032;B08B9/035;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 游雷;王小東

本公開涉及清洗系統及其使用方法。本公開提供一種清洗系統，該清洗系統包括第一子室、與第一子室相鄰的第二子室、以及與第二子室相鄰的第三子室。第一分隔件位于第一子室與第二子室之間。第二分隔件位于第二子室與第三子室之間。真空系統聯接到第三子室，以在第三子室中生成小于第一子室的壓力的真空壓力，以創建壓差來引起從第一子室通過位于第二子室中的部件的內部通道到第三子室的第一清洗劑的加壓流。過濾系統聯接到第一子室和第三子室，以去除和過濾來自第三子室的第一清洗劑，并且將該第一清洗劑返回到第一子室。

技術領域

本公開的多個方面涉及清洗工業設備的通道以及可以使用工業設備制造的零件和組件的內部通道。

背景技術

可以采用各種類型的工業設備來制造和組裝跨多個行業的零件。這種工業設備可以包括具有一個或更多個內部通道的工程部件。同樣，由該工業設備制造或以其他方式制造的零件也可以包括一個或更多個內部通道。各種部件的內部通道以及使用工業設備制造和組裝的零件可能會在其內部通道中積聚污染物的堆積。考慮到該堆積所在的位置，去除這些內部通道中的堆積可能具有挑戰性。此外，用于去除堆積的清洗方法會遺留殘留物，這些殘留物可能對工業設備和各種部件的將來使用造成危害。因此，仍然需要一種改進的清洗內部通道的方法。

發明內容

本公開提供了一種清洗系統。在一個方面，該清洗系統包括清洗室，該清洗室包括：第一子室，第一子室被配置為保持第一清洗劑；第二子室，第二子室與第一子室相鄰；以及第一分隔件，第一分隔件位于第一子室與第二子室之間，第一分隔件中形成有第一孔。該清洗室還包括：第三子室，第三子室與第二子室相鄰，并且被配置為接收第一清洗劑；以及第二分隔件，第二分隔件位于第二子室與第三子室之間，第二分隔件中形成有第二孔，第一孔和第二孔被配置為形成通過第二子室的流體路徑。該清洗系統還包括：真空系統，真空系統聯接到第三子室，真空系統被配置為在第三子室中生成壓力，該壓力小于第一子室的壓力，以引起從第一子室到第三子室的第一清洗劑的加壓流；以及過濾系統，過濾系統聯接到第一子室和第三子室，過濾系統被配置為去除和過濾來自第三子室的第一清洗劑，并且將該第一清洗劑返回到第一子室。

在一個方面，結合以上或以下的任何示例清洗系統，該清洗系統還包括：第一聯接機構，該第一聯接機構經由多個第一通孔的第一通孔可移除地聯接到第一分隔件；以及第二聯接機構，第二聯接機構經由多個第二通孔的第二通孔可移除地聯接到第二分隔件。

在一個方面，結合以上或以下的任何示例清洗系統，該清洗系統還包括：部件，該部件位于第二子室中，該部件具有：部件的第一端，該第一端被可移除地聯接到第一聯接機構；部件的第二端，該第二端被可移除地聯接到第二聯接機構；外表面；以及內表面，該內表面限定了從部件的第一端延伸到部件的第二端的至少一個內部通道。

在一個方面，結合以上或以下的任何示例清洗系統，該清洗系統還包括：第一聯接機構和第二聯接機構中的每一者包括壓配合機構、夾具、粘合劑、磁吸盤或其組合中的至少一者。

在一個方面，結合以上或以下的任何示例清洗系統，該清洗系統還包括：溫度控制器，該溫度控制器聯接到第一子室，該溫度控制器被配置為調節第一子室的溫度。

在一個方面，結合以上或以下的任何示例清洗系統，該清洗系統還包括：第一容器，該第一容器聯接到第一子室，該第一容器中具有第一清洗劑并被配置為將第一清洗劑輸送到第一子室中。

在一個方面，結合以上或以下的任何示例清洗系統，該清洗系統還包括：第二容器，該第二容器聯接到第二子室，該第二容器具有第二清洗劑并被配置為將第二清洗劑輸送到第二子室中。