[發明專利]具有功能分子的光學器件有效
| 申請號: | 202110661859.7 | 申請日: | 2019-07-01 |
| 公開(公告)號: | CN113433603B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發明(設計)人: | 約翰尼斯·賽德爾;梁康寧;雅羅斯拉夫·齊巴;C·托拉瓦爾 | 申請(專利權)人: | 唯亞威通訊技術有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/10 | 分類號: | G02B1/10;G02B1/14;G02B1/16;G02B1/18;G02B1/04;G02B5/20;G02B5/22 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 張瑞;楊明釗 |
| 地址: | 美國亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 功能 分子 光學 器件 | ||
1.一種制造光學器件的方法,包括:
在基底上沉積反射體層;
在所述反射體層上沉積選擇性光調制劑層;以及
在所述選擇性光調制劑層、所述選擇性光調制劑層的表面的外部的功能層、外表面附近的所述選擇性光調制劑層、所述反射體層附近的所述選擇性光調制劑層以及所述反射體層的外部的功能層中的至少一個中提供功能分子,
其中所述功能分子包含選自以下的至少一組:多元醇、磷酸、酰胺、季銨鹽、吡啶鎓鹽、聚乙二醇、炭黑、碳納米管、氧化銦、導電聚合物、磺酸、羧酸、聚羧酸、酸酐、酰鹵及其組合。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述功能分子存在于所述選擇性光調制劑層的表面的外部的功能層中。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述功能分子存在于所述反射體層的外部的功能層中。
4.根據權利要求1所述的方法,其中所述功能分子存在于所述選擇性光調制劑層中。
5.根據權利要求1所述的方法,其中所述功能分子存在于所述反射體層附近的所述選擇性光調制劑層中。
6.根據權利要求1所述的方法,其中所述反射體層包括第一表面和與所述第一表面相對的第二表面;
其中所述選擇性光調制劑層是在所述反射體層的所述第一表面的外部的第一選擇性光調制劑層;并且
其中第二選擇性光調制劑層在所述反射體層的所述第二表面的外部。
7.根據權利要求1所述的方法,其中所述功能分子包含選自以下的至少一種基團:電荷消散基團;涂層鍵合基團;以及粘合增強基團。
8.根據權利要求7所述的方法,其中所述電荷消散基團選自多元醇、磷酸、酰胺、季銨鹽、吡啶鎓鹽、聚乙二醇、炭黑、碳納米管、氧化銦、導電聚合物、磺酸及其組合。
9.根據權利要求7所述的方法,其中所述涂層鍵合基團選自多元醇、羧酸及其組合。
10.根據權利要求7所述的方法,其中所述粘合增強基團選自多元醇、聚羧酸、磷酸、磺酸、酸酐、酰鹵及其組合。
11.一種光學器件,包括:
反射體層;
選擇性光調制劑層,所述選擇性光調制劑層在所述反射體層的外部;以及
功能分子,所述功能分子存在于所述反射體層、所述反射體層的表面和所述選擇性光調制劑層的表面的外部的功能層、外表面附近的所述反射體層以及所述選擇性光調制劑層附近的所述反射體層中的至少一個中;
其中所述功能分子包含選自以下的至少一組:多元醇、磷酸、酰胺、季銨鹽、吡啶鎓鹽、聚乙二醇、炭黑、碳納米管、氧化銦、導電聚合物、磺酸、羧酸、聚羧酸、酸酐、酰鹵及其組合。
12.根據權利要求11所述的光學器件,其中所述功能分子包含選自以下的至少一種基團:電荷消散基團;涂層鍵合基團;以及粘合增強基團。
13.根據權利要求12所述的光學器件,其中所述電荷消散基團選自多元醇、磷酸、酰胺、季銨鹽、吡啶鎓鹽、聚乙二醇、炭黑、碳納米管、氧化銦、導電聚合物、磺酸及其組合。
14.根據權利要求12所述的光學器件,其中所述涂層鍵合基團選自多元醇、羧酸及其組合。
15.根據權利要求12所述的光學器件,其中所述粘合增強基團選自多元醇、聚羧酸、磷酸、磺酸、酸酐、酰鹵及其組合。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于唯亞威通訊技術有限公司,未經唯亞威通訊技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110661859.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種陶板幕墻與墻磚收口的方法
- 下一篇:空氣彈簧及其裝配裝置、裝配方法





