[發明專利]一種鍍膜設備靶位的功率調整方法、裝置、控制器及存儲介質

在審

• 申請號: 202110659680.8
• 申請日: 2021-06-11
• 公開（公告）號: CN113403600A
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發明（設計）人: 范存貴;崔新禮;張少華;黃穎;熊云;任懷學;杜彥廷;崔平生;余光輝;彭立群;艾發智
• 申請（專利權）人: 東莞南玻工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C03C17/09
• 代理公司: 深圳市精英專利事務所 44242
• 代理人: 李瑩

本發明實施例公開了一種鍍膜設備靶位的功率調整方法、裝置、控制器及存儲介質，涉及低輻射鍍膜玻璃制造技術領域。所述鍍膜設備靶位的功率調整方法：包括實時獲取玻璃距靶位的距離；判斷玻璃距靶位的距離是否小于預設的距離閾值；若玻璃距靶位的距離小于預設的距離閾值，控制靶位的功率為預設的第一功率值；若玻璃距靶位的距離不小于預設的距離閾值，控制靶位的功率為預設的第二功率值；其中，第二功率值小于第一功率值。本發明能夠避免能量浪費，更節能；進一步地，無需人工調整，節省人力；進一步地，功率調整控制精準，產品質量好。

技術領域

本發明涉及低輻射鍍膜玻璃制造技術領域，尤其涉及一種鍍膜設備靶位的功率調整方法、裝置、控制器及存儲介質。

背景技術

外門窗玻璃的熱損失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50％以上。有關研究資料表明，玻璃內表面的傳熱以輻射為主，占58％，這意味著要從改變玻璃的性能來減少熱能的損失，最有效的方法是抑制其內表面的輻射。普通浮法玻璃的輻射率高達0.84，當鍍上一層以銀為基礎的低輻射薄膜后，其輻射率可降至0.1以下。隨著低碳經濟的發展，鍍膜低輻射玻璃已成為建筑玻璃市場的主流。

由于不同設備、不同環境對鍍膜玻璃的性能有很大的影響，每生產一種鍍膜玻璃都要根據當時生產情況對產品根據產品的工作參數進行微調，使生產出的產品性能滿足客戶要求。鍍膜線調片時，一鍋只能放一片玻璃。這就造成很多靶位沒有玻璃，在空燒，很浪費電能和靶材。現有技術通過人工調整靶位功率，耗費人力，控制精準度差，導致產品質量差。

發明內容

本發明實施例所要解決的技術問題是現有鍍膜設備電能浪費嚴重的問題。

為了解決上述問題，本發明實施例提出如下技術方案：

第一方面，本發明實施例提出一種鍍膜設備靶位的功率調整方法，包括：

實時獲取玻璃距靶位的距離；

判斷玻璃距靶位的距離是否小于預設的距離閾值；

若玻璃距靶位的距離小于預設的距離閾值，控制靶位的功率為預設的第一功率值；

若玻璃距靶位的距離不小于預設的距離閾值，控制靶位的功率為預設的第二功率值；

其中，第二功率值小于第一功率值。

其進一步的技術方案為，所述實時獲取玻璃距靶位的距離，包括：

檢測玻璃是否到達鍍膜室的入口；

若檢測到玻璃到達鍍膜室的入口，開始記錄玻璃的傳輸時間；

根據玻璃的運輸時間以及傳輸速度計算玻璃距鍍膜室的入口的距離；

根據玻璃距鍍膜室的入口的距離以及靶位距鍍膜室的入口的距離計算玻璃距靶位的距離。

其進一步的技術方案為，所述檢測玻璃是否到達鍍膜室的入口，包括：

通過傳感器檢測玻璃是否到達鍍膜室的入口。

其進一步的技術方案為，所述根據玻璃距鍍膜室的入口的距離以及靶位距鍍膜室的入口的距離計算玻璃距靶位的距離，包括：

計算玻璃距鍍膜室的入口的距離與靶位距鍍膜室的入口的距離的差的絕對值作為玻璃距靶位的距離。

其進一步的技術方案為，所述距離閾值為50-200mm。

第二方面，本發明實施例提出一種鍍膜設備靶位的功率調整裝置，所述鍍膜設備靶位的功率調整裝置包括用于執行如第一方面所述的鍍膜設備靶位的功率調整方法的單元。