[發明專利]抗蛋白吸附涂層修飾基材及其制備方法

在審

• 申請號: 202110659176.8
• 申請日: 2021-06-15
• 公開（公告）號: CN113402754A
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發明（設計）人: 嚴拓;陳希明
• 申請（專利權）人: 蘇州林華醫療器械股份有限公司
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C08J7/06;C08J7/12;C08L75/04;C23C16/44;C23C16/56;C09D171/02;C09D5/00
• 代理公司: 南京艾普利德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32297
• 代理人: 周海斌;陸明耀

1.一種抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，包括以下步驟：

第一步、將目標基材清洗并干燥；利用化學氣相沉積法，將3-氨基丙基三甲氨基硅烷沉積于目標基材表面作為基層，并獲得初級修飾基材；

第二步、先將寡過氧化物溶解于二惡烷中形成寡過氧化物處理液，再將第一步所得初級修飾基材放入寡過氧化物處理液中反應，并獲得次級修飾基材；

第三步、先將OEGMA單體溶解于水中形成OEGMA水溶液，再將次級修飾基材放入OEGMA水溶液中反應，即得抗蛋白吸附涂層修飾基材。

2.根據權利要求1所述的抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，所述寡過氧化物的制備過程為：

將氯化苯四酸溶解于無水二氯乙烷中攪拌混合，加入叔丁基過氧化氫形成混合物；先將吡啶溶解于無水二氯乙烷中形成第一吡啶溶液，再將第一吡啶溶液加入混合物中混合；將PEG-9加入混合物，先將吡啶溶解于無水二氯乙烷中形成第二吡啶溶液，再將第二吡啶溶液加入混合物中混合；攪拌反應；過濾并將固形物干燥，即得寡過氧化物。

3.根據權利要求2所述的抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，所述氯化苯四酸溶解于無水二氯乙烷時，氯化苯四酸與無水二氯乙烷的比例為4.6±0.5g：15±3ml；所述叔丁基過氧化氫與氯化苯四酸的摩爾比為1：1；所述第一吡啶溶液中吡啶與無水二氯乙烷的比例為1.1±0.3g：10±2ml，且第一吡啶溶液中的吡啶與氯化苯四酸的摩爾比為1：1；所述PEG-9與氯化苯四酸的摩爾比為1：1；所述第二吡啶溶液中吡啶與無水二氯乙烷的比例為2.2±0.4g：10±2ml。

4.根據權利要求2所述的抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，在寡過氧化物的制備過程中，先將混合物冷卻至1℃-5℃，再于此溫度下逐滴加入第一吡啶溶液，加入后保持此溫度并混合至少1h；之后在此溫度下，將PEG-9加入混合物，逐滴加入第二吡啶溶液；攪拌反應過程中，溫度逐步上升至環境溫度，攪拌反應時間為至少3h；固形物干燥時在40℃±3℃下真空干燥至少3h。

5.根據權利要求1所述的抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，第一步中，清洗時將目標基材放入水或乙醇溶液中并采用超聲進行清洗，干燥時采用氮氣保護目標基材；所述化學氣相沉積法的處理溫度為50℃-70℃，處理時間為0.5-12h；所述目標基材經化學氣相沉積法處理后于70℃±5℃下干燥過夜，即得初級修飾基材。

6.根據權利要求1所述的抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，第二步中，所述寡過氧化物與二惡烷的比例為1±0.5% g/ml；反應時間為至少24h；所述初級修飾基材在反應結束后取出并以二惡烷洗掉未反應的寡過氧化物，即得次級修飾基材。

7.根據權利要求1所述的抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，第三步中，所述OEGMA水溶液中OEGMA單體的濃度為0.1±0.05 mol/L；在氮氣保護下，將次級修飾基材放入OEGMA水溶液中并于90℃±5℃反應2-48h，反應結束后取出并以水洗掉未反應的OEGMA單體，即得抗蛋白吸附涂層修飾基材。

8.根據權利要求1所述的抗蛋白吸附涂層修飾基材的制備方法，其特征是，所述目標基材的材質為高分子材料或金屬材料。

9.權利要求1至8任一項所述制備方法制得的抗蛋白吸附涂層修飾基材。

10.權利要求1至8任一項所述制備方法在目標基材表面修飾的抗蛋白吸附涂層。