[發(fā)明專利]基于直接飛行時間法的光信號發(fā)射方法及測距系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110658120.0 | 申請日: | 2021-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN113504532A | 公開(公告)日: | 2021-10-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 萬賢明;張超 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市靈明光子科技有限公司 |
| 主分類號: | G01S7/484 | 分類號: | G01S7/484;G01S17/10;G01S17/894 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永強 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)桃源街道福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 直接 飛行 時間 信號 發(fā)射 方法 測距 系統(tǒng) | ||
1.一種基于直接飛行時間法的光信號發(fā)射方法,其特征在于,包括:
發(fā)射粗激光;
獲取多個細(xì)激光調(diào)制參數(shù),其中,所述細(xì)激光調(diào)制參數(shù)根據(jù)反射回的粗激光進行設(shè)置;
根據(jù)所述多個細(xì)激光調(diào)制參數(shù)分別對多個細(xì)激光分別進行調(diào)制,從而得到可區(qū)分的多個細(xì)激光;
發(fā)射調(diào)制后的所述多個細(xì)激光。
2.如權(quán)利要求1所述方法,其特征在于,所述細(xì)激光調(diào)制參數(shù)包括相位調(diào)制、脈寬調(diào)制和光強調(diào)制中的任意一種。
3.如權(quán)利要求1所述方法,其特征在于,所述細(xì)激光調(diào)制參數(shù)包括相位調(diào)制、脈寬調(diào)制和光強調(diào)制中的2種或3種。
4.如權(quán)利要求2或3所述方法,其特征在于,所述發(fā)射調(diào)制后的所述多個細(xì)激光,具體包括:
預(yù)先設(shè)置所述多個細(xì)激光的第一發(fā)射次序,將調(diào)制后的所述多個細(xì)激光按照所述第一發(fā)射次序進行發(fā)射。
5.如權(quán)利要求4所述方法,其特征在于,任意2個細(xì)激光的細(xì)激光調(diào)制參數(shù)及調(diào)制參數(shù)下的具體數(shù)值相同時,為同類;任意2個細(xì)激光的細(xì)激光調(diào)制參數(shù)不相同或調(diào)制參數(shù)下的具體數(shù)值不相同時,為不同類;所述發(fā)射調(diào)制后的所述多個細(xì)激光,具體包括:
預(yù)先設(shè)置不同類細(xì)激光的第二發(fā)射次序,將調(diào)制后的多個不同類細(xì)激光按照所述第二發(fā)射次序進行發(fā)射。
6.如權(quán)利要求1所述方法,其特征在于,所述發(fā)射粗激光,具體包括:
預(yù)先設(shè)置粗激光調(diào)制參數(shù),對多個粗激光進行調(diào)制,從而得到可區(qū)分的多個粗激光;
發(fā)射所述調(diào)制后的粗激光。
7.如權(quán)利要求1所述方法,其特征在于,所述多個細(xì)激光脈寬的開始和結(jié)束時間都在其對應(yīng)的所述粗激光脈寬的開始和結(jié)束時間的范圍內(nèi)。
8.如權(quán)利要求1所述方法,其特征在于,所述多個細(xì)激光脈沖的強度都在其對應(yīng)的所述粗激光脈寬的強度范圍內(nèi)。
9.一種發(fā)射模塊,其特征在于,包括:
依次連接的觸發(fā)單元和發(fā)射單元;
所述觸發(fā)單元,用于獲取細(xì)激光調(diào)制參數(shù),根據(jù)所述細(xì)激光調(diào)制參數(shù)對多個細(xì)激光分別進行調(diào)制,從而得到可區(qū)分的多個細(xì)激光,所述細(xì)激光調(diào)制參數(shù)根據(jù)反射回的粗激光進行設(shè)置;
所述發(fā)射單元,用于發(fā)射粗激光和調(diào)制后的所述多個細(xì)激光。
10.一種測距系統(tǒng),用于測量目標(biāo)物體距離并輸出檢測數(shù)據(jù)至外部處理器,其特征在于,包括接收模塊、主控模塊以及如權(quán)利要求9所述的發(fā)射模塊,所述主控模塊分別與所述發(fā)射模塊和接收模塊連接,所述接收模塊還與外部處理器連接;
所述主控模塊,用于根據(jù)反射回的粗激光設(shè)置細(xì)激光調(diào)制參數(shù),并向所述發(fā)射模塊發(fā)送所述細(xì)激光調(diào)制參數(shù);
所述發(fā)射模塊,用于發(fā)射粗激光,并按照細(xì)激光調(diào)制參數(shù)調(diào)制多個細(xì)激光,并發(fā)射調(diào)制后的多個細(xì)激光,使所述多個細(xì)激光之間產(chǎn)生區(qū)別;
所述接收模塊,用于接收目標(biāo)物體反射的粗激光和細(xì)激光,并將所述粗激光建立起的粗統(tǒng)計直方圖和細(xì)激光建立起的細(xì)統(tǒng)計直方圖輸出至外部處理器。
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