[發明專利]鍍膜方法

在審

• 申請號: 202110652471.0
• 申請日: 2021-06-11
• 公開（公告）號: CN113387593A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 徐周
• 申請（專利權）人: 深圳菲比特光電科技有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34;C03C17/00;C23C14/24
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 潘登

1.一種鍍膜方法，其特征在于，包括：

提供基材；

在所述基材的第一面形成第一鍍膜層；

在所述第一鍍膜層遠離所述基材的一側形成防污層；

將所述基材的第一面固定于鍍膜設備上，其中，所述防污層位于所述鍍膜設備和所述基材之間；

在所述基材與所述第一面相對的第二面形成第二鍍膜層；

去除所述防污層。

2.根據權利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述在所述基材的第一面形成第一鍍膜層之前包括：

在所述基材的第二面形成第一粘結膜層；

通過所述第一粘結膜層將所述基材固定于所述鍍膜設備上；

在所述基材與所述第一面相對的第二面形成第二鍍膜層之前還包括：

去除所述第一粘結膜層。

3.根據權利要求2所述的鍍膜方法，其特征在于，在所述去除所述第一粘結膜層之后，且在所述基材與所述第一面相對的第二面形成第二鍍膜層之前包括：

將所述基材傳輸至擦拭設備內，對所述基材的第二面進行擦拭。

4.根據權利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述防污層為防指紋膜層。

5.根據權利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述防污層的水滴角大于90度。

6.根據權利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述將所述基材的第一面固定于鍍膜設備上包括：

在所述防污層遠離所述基材的一側形成第二粘結膜層；

通過所述第二粘結膜層將所述基材固定于所述鍍膜設備上。

7.根據權利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，在所述基材與所述第一面相對的第二面形成第二鍍膜層之后，且在去除所述防污層之前包括：

在所述第二鍍膜層遠離所述基材的第二面的一側形成保護膜；

去除所述防污層之后還包括：

去除所述保護膜。

8.根據權利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述去除所述防污層包括：將所述基材傳輸至清洗設備，通過所述清洗設備去除所述防污層。

9.根據權利要求8所述的鍍膜方法，其特征在于，所述清洗設備為等離子清洗機。

10.根據權利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，在所述去除所述防污層之后包括：

將所述基材傳輸至擦拭設備，對所述基材的第一面和第二面進行擦拭。