[發明專利]一種用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置

有效

• 申請號: 202110652208.1
• 申請日: 2021-06-11
• 公開（公告）號: CN113447403B
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發明（設計）人: 楊理理;黃冠;詹葉圳
• 申請（專利權）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: G01N15/00
• 分類號: G01N15/00;G01N21/71
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 陳國強

1.一種用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：

包括自上至下依次設置于機架（19）上的高溫加熱爐（4）、水冷觀察段（11）和粒子回收倉（14），

所述高溫加熱爐（4）的頂部設置蓋合于其頂部的爐蓋（3），爐蓋（3）的頂部設置有漏斗（1）和攪拌電機（2），所述漏斗（1）與高溫加熱爐（4）的內膽（6）相通，所述攪拌電機（2）驅動高溫加熱爐（4）的內膽（6）中的攪拌槳（5）；

所述高溫加熱爐（4）和水冷觀察段（11）之間設置有第一高溫閥門（8）；

所述水冷觀察段（11）的上段設置有粒子幕調節片（9），位于粒子幕調節片（9）以下的水冷觀察段（11）的側壁上設置有觀察窗（10），所述水冷觀察段（11）為雙層外壁，且雙層外壁之間填充有冷卻介質，所述水冷觀察段（11）還設置有惰性氣體吹掃進出口；

所述水冷觀察段（11）與粒子回收倉（14）之間設置有第二高溫閥門（13 ）；

所述機架（19）上還設置有驅動爐蓋（3）和高溫加熱爐（4）豎直運動的滑動機構。

2.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：

所述滑動機構包括電動推桿（16）、滑桿（17）和絲桿滑臺（18），電動推桿（16）連接爐蓋（3），所述高溫加熱爐（4）通過滑桿（17）連接于絲桿滑臺（18）上，所述絲桿滑臺（18）和滑桿（17）均固定在機架(19)上。

3.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述高溫加熱爐（4）采用高溫電阻絲作為加熱元件，所述高溫加熱爐（4）連接固定于機架（19）側面的加熱爐控制器7。

4.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述粒子幕調節片（9）為一個中間開設有矩形孔（92）的金屬片，且位于粒子幕調節片（9）對稱的兩端各設置有一個定位孔（91）。

5.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述觀察窗（10）為四個，相鄰的觀察窗（10）呈90°設置。

6.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述水冷觀察段（11）外壁的下端設置有水冷進水口（12），所述水冷觀察段（11）外壁的上段設置有水冷出水口（20）。

7.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述水冷觀察段（11）內、外壁的下端設置有惰性氣體吹掃進口（22），所述水冷觀察段（11）內、外壁的上端設置有惰性氣體吹掃出口（21）。

8.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述機架（19）的底部設置有四個福馬輪（15）。

9.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述攪拌槳（5）、內膽（6）、粒子幕調節片（9）和粒子回收倉（14）的材質均為316s不銹鋼，可承受800℃以上的高溫。

10.根據權利要求1所述的用于高溫粒子幕光譜發射率測量的加熱裝置，其特征在于：所述第一高溫閥門（8）和第二高溫閥門（13）均為耐高溫的圓形插板閥，并采用石墨墊片密封，可承受800℃以上高溫。