[發明專利]拉絲泡沫金屬電磁控式清潔凹面加熱沿坡式緩行纏繞裝置有效
| 申請號: | 202110651731.2 | 申請日: | 2021-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN113245388B | 公開(公告)日: | 2023-07-04 |
| 發明(設計)人: | 宋立國;李書東;劉淑童;紀東平 | 申請(專利權)人: | 德州樂瀚焊材有限公司 |
| 主分類號: | B21C9/00 | 分類號: | B21C9/00;B21C43/02;B21C47/26;B21C47/12 |
| 代理公司: | 德州魯旺知識產權代理事務所(普通合伙) 37345 | 代理人: | 王娟娟 |
| 地址: | 253000 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 拉絲 泡沫 金屬 電磁 清潔 凹面 加熱 沿坡式 緩行 纏繞 裝置 | ||
1.拉絲泡沫金屬電磁控式清潔凹面加熱沿坡式緩行纏繞裝置,其特征在于:包括泡沫金屬電磁控式磁流體可調清潔裝置、凹面聚光加熱裝置、支撐底板、沿坡式第次逐級旋轉纏繞裝置和彈出擠壓氣推式芒硝緩釋水冷裝置,所述凹面聚光加熱裝置、泡沫金屬電磁控式磁流體可調清潔裝置、彈出擠壓氣推式芒硝緩釋水冷裝置和沿坡式第次逐級旋轉纏繞裝置均設于支撐底板上,所述凹面聚光加熱裝置、泡沫金屬電磁控式磁流體可調清潔裝置、彈出擠壓氣推式芒硝緩釋水冷裝置和沿坡式第次逐級旋轉纏繞裝置依次相連;所述凹面聚光加熱裝置包括初入式凹面聚光加熱旋轉組件、凹面聚光加熱臺、清潔用導向旋轉組件和凹面鏡加熱件,所述凹面聚光加熱臺設于支撐底板上,所述初入式凹面聚光加熱旋轉組件和清潔用導向旋轉組件設于凹面聚光加熱臺上,所述凹面鏡加熱件設于凹面聚光加熱臺上,所述凹面鏡加熱件設于初入式凹面聚光加熱旋轉組件和清潔用導向旋轉組件之間;所述初入式凹面聚光加熱旋轉組件包括凹面聚光加熱旋轉輥支撐件、初入式凹面聚光加熱旋轉輥和初入式凹面聚光加熱旋轉緩坡槽,所述凹面聚光加熱旋轉輥支撐件設于凹面聚光加熱臺上,所述初入式凹面聚光加熱旋轉輥可旋轉設于凹面聚光加熱旋轉輥支撐件上,所述初入式凹面聚光加熱旋轉緩坡槽設于初入式凹面聚光加熱旋轉輥上;所述清潔用導向旋轉組件包括清潔用導向旋轉緩坡槽、清潔用導向旋轉輥和導向旋轉輥支撐件,所述導向旋轉輥支撐件設于凹面聚光加熱臺上,所述清潔用導向旋轉輥可旋轉設于導向旋轉輥支撐件上,所述清潔用導向旋轉緩坡槽設于清潔用導向旋轉輥上;所述泡沫金屬電磁控式磁流體可調清潔裝置包括清潔轉送導向組件、電磁控式磁流體可調彈性件、固定框、下壓式清潔旋轉組件和泡沫金屬可調清潔件,所述固定框設于凹面聚光加熱臺上,所述泡沫金屬可調清潔件設于固定框上,所述電磁控式磁流體可調彈性件可滑動套接設于泡沫金屬可調清潔件外壁上,所述清潔轉送導向組件設于凹面聚光加熱臺上,所述清潔轉送導向組件設于泡沫金屬可調清潔件下方,所述下壓式清潔旋轉組件設于支撐底板上,所述下壓式清潔旋轉組件設于泡沫金屬可調清潔件上方;所述泡沫金屬可調清潔件包括磁流體、泡沫金屬層、拉絲通道、泡沫金屬可調清潔外層和泡沫金屬可調清潔內層,所述泡沫金屬可調清潔外層設于固定框上,所述泡沫金屬可調清潔內層設于泡沫金屬可調清潔外層內,所述泡沫金屬層設于泡沫金屬可調清潔外層和泡沫金屬可調清潔內層之間,所述磁流體設于泡沫金屬層之間,所述拉絲通道設于泡沫金屬可調清潔內層內,所述電磁控式磁流體可調彈性件可滑動套接設于泡沫金屬可調清潔外層上;所述下壓式清潔旋轉組件包括下壓式清潔旋轉緩坡槽、下壓式清潔轉向輥和下壓式轉向輥支撐件,所述下壓式轉向輥支撐件設于支撐底板上,所述下壓式清潔轉向輥可旋轉設于下壓式轉向輥支撐件上,所述下壓式清潔旋轉緩坡槽設于下壓式清潔轉向輥上;所述清潔轉送導向組件包括清潔轉送導向輥緩坡槽、轉送導向輥和清潔轉送導向輥支撐件,所述清潔轉送導向輥支撐件設于凹面聚光加熱臺上,所述轉送導向輥可旋轉設于清潔轉送導向輥支撐件上,所述清潔轉送導向輥緩坡槽設于轉送導向輥上;所述彈出擠壓氣推式芒硝緩釋水冷裝置包括芒硝存儲組件、氣推式彈性擠壓組件、芒硝助推驅動組件和氣推式芒硝緩釋水冷組件,所述氣推式彈性擠壓組件設于支撐底板上,所述芒硝存儲組件設于支撐底板上,所述芒硝存儲組件與氣推式彈性擠壓組件相連,所述芒硝助推驅動組件設于芒硝存儲組件內,所述氣推式芒硝緩釋水冷組件設于支撐底板上,所述氣推式芒硝緩釋水冷組件靠近芒硝存儲組件設置;所述氣推式彈性擠壓組件包括擠壓氣推式彈性氣囊、被動擠壓氣推式固定板、彈出擠壓氣推彈性件支撐板、電磁控式擠壓彈性件和彈出擠壓氣推板,所述彈出擠壓氣推彈性件支撐板設于支撐底板上,所述電磁控式擠壓彈性件一端設于彈出擠壓氣推彈性件支撐板上,所述彈出擠壓氣推板設于電磁控式擠壓彈性件另一端上,所述被動擠壓氣推式固定板設于支撐底板上,所述擠壓氣推式彈性氣囊卡接設于被動擠壓氣推式固定板上;所述芒硝存儲組件包括芒硝暫存件、芒硝輸送管、芒硝緩存件和芒硝流通箱,所述芒硝流通箱設于支撐底板上,所述芒硝暫存件設于芒硝流通箱上壁上,所述芒硝緩存件一端與擠壓氣推式彈性氣囊相連,所述芒硝輸送管連接芒硝緩存件另一端和芒硝暫存件;所述芒硝助推驅動組件包括滑動卡接件、頂桿、滑動固定件、主動驅動桿、驅動電機、轉桿和扇形旋轉驅動件,所述滑動卡接件設于芒硝緩存件內底壁上,所述驅動電機設于支撐底板上,所述轉桿一端與驅動電機相連,所述扇形旋轉驅動件設于轉桿另一端上,所述主動驅動桿一端可旋轉鉸接設于扇形旋轉驅動件上,所述滑動固定件設于主動驅動桿另一端上,所述頂桿設于滑動固定件上,所述頂桿設于滑動卡接件下端;所述氣推式芒硝緩釋水冷組件包括水冷初入旋轉組件、氣推均化件、氣推式芒硝緩釋水冷箱和水冷排出導向組件,所述氣推式芒硝緩釋水冷箱設于支撐底板上,所述水冷初入旋轉組件和水冷排出導向組件分別設于氣推式芒硝緩釋水冷箱相對兩側壁上,所述氣推均化件設于氣推式芒硝緩釋水冷箱內壁上;所述水冷初入旋轉組件包括水冷旋轉輥支撐件、水冷旋轉緩坡槽和水冷初入旋轉輥,所述水冷旋轉輥支撐件設于氣推式芒硝緩釋水冷箱側壁上,所述水冷初入旋轉輥可旋轉設于水冷旋轉輥支撐件上,所述水冷旋轉緩坡槽設于水冷初入旋轉輥上;所述水冷排出導向組件包括水冷排出緩坡槽、水冷排出導向輥和水冷導向輥支撐件,所述水冷導向輥支撐件設于氣推式芒硝緩釋水冷箱另一側壁上,所述水冷排出導向輥可旋轉設于水冷導向輥支撐件上,所述水冷排出緩坡槽設于水冷排出導向輥上;所述沿坡式第次逐級旋轉纏繞裝置包括旋轉驅動組件、沿坡式第次逐級導向組件、緩行驅動組件和驅動支撐組件,所述沿坡式第次逐級導向組件和驅動支撐組件設于支撐底板上,所述緩行驅動組件設于驅動支撐組件上,所述旋轉驅動組件設于緩行驅動組件和驅動支撐組件上;所述沿坡式第次逐級導向組件包括沿坡式第次逐級導向輥緩坡槽、沿坡式第次逐級導向輥和第次逐級導向輥支撐件,所述第次逐級導向輥支撐件設于支撐底板上,所述沿坡式第次逐級導向輥可旋轉設于第次逐級導向輥支撐件上,所述沿坡式第次逐級導向輥緩坡槽設于沿坡式第次逐級導向輥上。
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