[發明專利]臭氧發生方法

在審

• 申請號: 202110651292.5
• 申請日: 2016-08-08
• 公開（公告）號: CN113307229A
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: 內藤敬祐;菱沼宣是;鈴木信二
• 申請（專利權）人: 優志旺電機株式會社
• 主分類號: C01B13/10
• 分類號: C01B13/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 陳建全

1.一種臭氧發生方法，其具備：原料氣體供給單元，其供給含有氧的原料氣體；氣體流路形成部件，其形成供來自該原料氣體供給單元的原料氣體流通的氣體流路；和紫外線光源，其配置在該氣體流路內并放射紫外線，并且該臭氧發生方法通過對在該氣體流路中流通的原料氣體照射來自該紫外線光源的紫外線，從而使原料氣體中的氧吸收紫外線而生成臭氧，其特征在于，

所述紫外線光源由放射波長為200nm以下的紫外線的準分子燈構成，

在所述氣體流路中，在配置有紫外線光源的區域中的原料氣體的流速為1m/s以上。

2.根據權利要求1所述的臭氧發生方法，其特征在于，構成所述紫外線光源的準分子燈為棒狀，該準分子燈沿著所述氣體流路中的氣體流通方向被配置。

3.根據權利要求2所述的臭氧發生方法，其特征在于，所述準分子燈按照在所述準分子燈的外周面與所述氣體流路形成部件的內周面之間形成環狀空間的方式被配設。

4.權利要求3所述的臭氧發生方法，其特征在于，在所述氣體流路形成部件的內部，通過由所述環狀空間和與所述環狀空間連通的柱狀空間所形成的氣體流路形成空間來形成氣體流路。

5.根據權利要求1所述的臭氧發生方法，其特征在于，在所述氣體流路中流通的原料氣體的相對濕度為30％RH以下。

6.權利要求1～5中任一項所述的臭氧發生方法，其特征在于，從臭氧發生器的外部攝入構成外部氣氛的氣體，對該氣體進行除濕，并將所得到的干燥空氣作為原料氣體導入進氣體流路形成部件的內部并使其流通。

7.權利要求1～5中任一項所述的臭氧發生方法，其特征在于，所述原料氣體供給單元攝入構成外部氣氛的氣體，并在所述氣體流路形成部件的內部使其作為原料氣體流通。

8.權利要求7所述的臭氧發生方法，其特征在于，所述原料氣體供給單元按照所述原料氣體以規定的流速進行流動的方式來決定所述原料氣體的供給條件。

9.根據權利要求1～權利要求5中任一項所述的臭氧發生方法，其特征在于，被排出至外部的含臭氧氣體中的臭氧濃度為50ppm以下，被使用作為居住空間用殺菌除臭裝置。