[發(fā)明專利]一種光通訊波段波分復(fù)用硅基能谷光子晶體結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110651161.7 | 申請日: | 2021-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN113419304B | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓雨輝;費(fèi)宏明;武敏;林瀚;張明達(dá);劉欣;劉一超;陳智輝;陳靖 | 申請(專利權(quán))人: | 太原理工大學(xué) |
| 主分類號: | G02B6/122 | 分類號: | G02B6/122 |
| 代理公司: | 太原晉科知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人: | 趙江艷 |
| 地址: | 030024 *** | 國省代碼: | 山西;14 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 通訊 波段 波分復(fù)用硅基能谷 光子 晶體結(jié)構(gòu) | ||
1.一種光通訊波段波分復(fù)用硅基能谷光子晶體結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:硅基底(1),所述硅基底(1)上設(shè)置有第一分界線(2)、第二分界線(3)和第三分界線(4),第一分界線(2)位于光入射方向所在的直線上,第二分界線(3 )和第三分界線(4 )對稱設(shè)置在其兩側(cè),且其一端連接第一分界線(2)中部,另一端向靠近光入射一側(cè)傾斜后,又向平行于第一分界線(2)并遠(yuǎn)離光入射一側(cè)的方向延伸至光子晶體結(jié)構(gòu)邊緣;第一分界線(2)、第二分界線(3)和第三分界線(4)將硅基底(1)分割成第一區(qū)域(5),第二區(qū)域(6)、第三區(qū)域(7)和第四區(qū)域(8);
所述硅基底(1)上分布有多個圓形的空氣孔,所述空氣孔包括第一圓形空氣孔(9)、第二圓形空氣孔(10)和第三圓形空氣孔(11);第一圓形空氣孔(9)的半徑大于第三圓形空氣孔(11),第三圓形空氣孔(11)的半徑大于第二圓形空氣孔(10);
所述第一區(qū)域(5)、第二區(qū)域(6)、第三區(qū)域(7)和第四區(qū)域(8)內(nèi),第一圓形空氣孔(9)和第二圓形空氣孔(10)分別呈三角晶格交錯設(shè)置,且第一區(qū)域(5)和第四區(qū)域(8)其靠近第一分界線(2)處分別設(shè)置有一排第一圓形空氣孔(9)形成第一拓?fù)洳▽?dǎo)(12);第二區(qū)域(6)和第三區(qū)域(7)靠近第一分界線(2)處分別設(shè)置有一排第二圓形空氣孔(10)形成第三拓?fù)洳▽?dǎo)(14);所述第一區(qū)域(5)和第二區(qū)域(6)在第二分界線(3)處分別設(shè)置有一排第一圓形空氣孔(9)形成第二拓?fù)洳▽?dǎo)(13);所述第三區(qū)域(7)和第四區(qū)域(8)在第三分界線(4)兩側(cè)分別設(shè)置有一排第三圓形空氣孔(11)形成第四拓?fù)洳▽?dǎo)(15)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光通訊波段波分復(fù)用硅基能谷光子晶體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述硅基底(1)的折射率為3.48,空氣孔的折射率為1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光通訊波段波分復(fù)用硅基能谷光子晶體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述三角晶格的晶格常數(shù)為a=450 nm,第一圓形空氣孔(9)的半徑為ra=120 nm,第二圓形空氣孔(10)的半徑為rb=40 nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光通訊波段波分復(fù)用硅基能谷光子晶體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第三圓形空氣孔(11)的半徑為rc=100 nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光通訊波段波分復(fù)用硅基能谷光子晶體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述空氣孔以六角蜂窩點(diǎn)狀均勻分布在硅基底(1)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光通訊波段波分復(fù)用硅基能谷光子晶體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述硅基底(1)的厚度為220 nm。
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