[發明專利]一種提高激光陀螺儀刻度因數長期穩定性的方法

有效

• 申請號: 202110649568.6
• 申請日: 2021-06-10
• 公開（公告）號: CN113418521B
• 公開（公告）日: 2022-10-28
• 發明（設計）人: 梁浩;何川
• 申請（專利權）人: 北京航天時代激光導航技術有限責任公司
• 主分類號: G01C19/72
• 分類號: G01C19/72;G01C25/00
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 劉秀祥

1.一種提高激光陀螺儀刻度因數長期穩定性的方法，其特征在于，包括如下步驟：

將激光陀螺儀的工作范圍溫度進行分段；根據分段結果建立初步標定模型，初步標定模型中的補償陣的初值為零；初步標定模型為：

V＝N·(D·T+E+H)

V為標定模型計算的腔長控制電壓；D為系數陣；T為溫度陣；E為零次項陣；H為補償陣；N為溫度段陣，只有對應所測量到溫度段的值取1，其余為0；

測量激光陀螺儀在設定溫度區間內的腔長控制電壓，設定溫度區間涵蓋工作范圍溫度；

對工作范圍溫度中的每一段的某個溫度點，利用該溫度點、初步標定模型的腔長控制電壓計算結果、該溫度點測量的腔長控制電壓，修正初步標定模型中的補償陣的值，進一步獲得修正后的標定模型；

激光陀螺儀正常上電工作后，測量實時溫度，并利用修正后的標定模型計算腔長控制電壓V；當激光陀螺儀的腔長控制電路閉環后，獲得激光陀螺儀輸出的腔長控制電壓V～，利用V和V～持續更新修正后標定模型中的補償陣。

2.根據權利要求1所述的提高激光陀螺儀刻度因數長期穩定性的方法，其特征在于，用于標定的激光陀螺儀，選定該激光陀螺儀工作在背向散射信號最小或者測試精度最高的陀螺模式。

3.根據權利要求1所述的提高激光陀螺儀刻度因數長期穩定性的方法，其特征在于，測量激光陀螺儀在設定溫度區間內的腔長控制電壓時，將激光陀螺儀置于溫箱內，在設定溫度區間的最低溫度保溫預設時間后，逐漸升溫到設定溫度區間的最高溫度并保溫，然后再逐漸降溫到設定溫度區間的最低溫度并保溫。

4.一種提高激光陀螺儀刻度因數長期穩定性的裝置，其特征在于，包括：

建模模塊，用于將激光陀螺儀的工作范圍溫度進行分段；根據分段結果建立初步標定模型，初步標定模型中的補償陣的初值為零；初步標定模型為：

V＝N·(D·T+E+H)

V為標定模型計算的腔長控制電壓；D為系數陣；T為溫度陣；E為零次項陣；H為補償陣；N為溫度段陣，只有對應所測量到溫度段的值取1，其余為0；

測量模塊，用于測量激光陀螺儀在設定溫度區間內的腔長控制電壓，設定溫度區間涵蓋工作范圍溫度；

修正模塊，對工作范圍溫度中的每一段的某個溫度點，利用該溫度點、初步標定模型的腔長控制電壓計算結果、該溫度點測量的腔長控制電壓，修正初步標定模型中的補償陣的值，進一步獲得修正后的標定模型；

更新模塊，激光陀螺儀正常上電工作后，用于測量實時溫度，并利用修正后的標定模型計算腔長控制電壓V；當激光陀螺儀的腔長控制電路閉環后，獲得激光陀螺儀輸出的腔長控制電壓V～，利用V和V～持續更新修正后標定模型中的補償陣。

5.根據權利要求4所述的提高激光陀螺儀刻度因數長期穩定性的裝置，其特征在于，用于標定的激光陀螺儀，選定該激光陀螺儀工作在背向散射信號最小或者測試精度最高的陀螺模式。

6.根據權利要求4所述的提高激光陀螺儀刻度因數長期穩定性的裝置，其特征在于，測量激光陀螺儀在設定溫度區間內的腔長控制電壓時，將激光陀螺儀置于溫箱內，在設定溫度區間的最低溫度保溫預設時間后，逐漸升溫到設定溫度區間的最高溫度并保溫，然后再逐漸降溫到設定溫度區間的最低溫度并保溫。