[發明專利]諧振腔結構、諧振器、濾波器與通信裝置

有效

• 申請號: 202110648521.8
• 申請日: 2021-06-10
• 公開（公告）號: CN113394536B
• 公開（公告）日: 2022-12-27
• 發明（設計）人: 謝懿非
• 申請（專利權）人: 京信射頻技術（廣州）有限公司;京信通信技術（廣州）有限公司
• 主分類號: H01P7/06
• 分類號: H01P7/06;H01P7/10;H01P1/207;H01P1/20
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 周修文

1.一種諧振腔結構，其特征在于，所述諧振腔結構包括：

金屬諧振塊，所述金屬諧振塊的其中一側表面上設有兩兩相互鄰近設置的第一凹部、第二凹部與第三凹部；所述第一凹部用于裝設第一金屬諧振器，所述第二凹部用于裝設第一介質諧振器，所述第三凹部用于裝設第二介質諧振器；其中，位于所述第一凹部與所述第二凹部之間使所述第一凹部與所述第二凹部分隔的墻板為第一墻板，位于所述第一凹部與所述第三凹部之間使所述第一凹部與所述第三凹部分隔的墻板為第二墻板，位于所述第二凹部與所述第三凹部之間使所述第二凹部與所述第三凹部分隔的墻板為第三墻板；所述第一墻板上設有第一耦合窗口，所述第二墻板上設有第二耦合窗口，所述第三墻板上設有第三耦合窗口；其中，所述第一墻板沒有伸入到第一凹部內部，所述第二墻板沒有伸入到所述第一凹部內部；將所述第一金屬諧振器在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影的中心，與所述第一介質諧振器在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影的中心的連線定義為第一連線Z1；將所述第一金屬諧振器在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影的中心，與所述第二介質諧振器在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影的中心的連線定義為第二連線Z2；

所述第一耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第一連線Z1的一側，所述第二耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第二連線Z2的一側；所述第一耦合窗口的兩個相對口壁的間距為W1，所述第一耦合窗口遠離于第一連線Z1的口壁到第一連線Z1的間距為W2，W1≦W2，并通過增大W1的方式增大所述第一耦合窗口的耦合量。

2.根據權利要求1所述的諧振腔結構，其特征在于，所述第一耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第一連線Z1靠近于所述第二墻板的一側，所述第二耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第二連線Z2靠近于所述第一墻板的一側；或者，所述第一耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第一連線Z1遠離于所述第二墻板的一側，所述第二耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第二連線Z2遠離于所述第一墻板的一側。

3.根據權利要求1所述的諧振腔結構，其特征在于，所述第一耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第一連線Z1靠近于所述第二墻板的一側，所述第二耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第二連線Z2遠離于所述第一墻板的一側；或者，所述第一耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第一連線Z1遠離于所述第二墻板的一側，所述第二耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第二連線Z2靠近于所述第一墻板的一側。

4.根據權利要求2或3所述的諧振腔結構，其特征在于，所述金屬諧振塊的其中一側表面上設有第四凹部與第五凹部；所述第二凹部、第三凹部與第四凹部兩兩相互鄰近設置；所述第三凹部、第四凹部與第五凹部兩兩相互鄰近設置；所述第四凹部用于裝設第二金屬諧振器，所述第五凹部用于裝設第三金屬諧振器；

其中，位于所述第三凹部與所述第四凹部之間使所述第三凹部與所述第四凹部分隔的墻板為第四墻板，位于所述第三凹部與所述第五凹部之間使所述第三凹部與所述第五凹部分隔的墻板為第五墻板，位于所述第四凹部與所述第五凹部之間使所述第四凹部與所述第五凹部分隔的墻板為第六墻板；所述第四墻板上設有第四耦合窗口，所述第六墻板上設有第五耦合窗口；

將所述第二金屬諧振器在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影的中心，與所述第二介質諧振器在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影的中心的連線定義為第三連線Z3；所述第四耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影的中心位于所述第三連線Z3的一側。

5.根據權利要求4所述的諧振腔結構，其特征在于，所述第四耦合窗口在所述金屬諧振塊的其中一側表面上的投影位于所述第三連線Z3的一側。

6.一種諧振器，其特征在于，所述諧振器包括如權利要求1至5任意一項所述的諧振腔結構，還包括第一金屬諧振器、第一介質諧振器與第二介質諧振器；所述第一金屬諧振器設置于所述第一凹部，所述第一介質諧振器設置于所述第二凹部，所述第二介質諧振器設置于所述第三凹部。