[發明專利]一種采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極及其制備方法

有效

• 申請號: 202110647627.6
• 申請日: 2021-06-10
• 公開（公告）號: CN113376230B
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 林振宇;王馨陽;王建;邱彬;羅芳
• 申請（專利權）人: 福州大學
• 主分類號: G01N27/30
• 分類號: G01N27/30;G01N27/327;G01N27/416
• 代理公司: 福州元創專利商標代理有限公司 35100
• 代理人: 林文弘;蔡學俊

1.一種采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極，其特征在于：由光纖內層、導電膜層和光電材料層組成，所述光纖內層為塑料光纖，所述導電膜層的材料包括氧化銦錫和摻氟氧化錫，所述光電材料層的材料包括氧化鋅、二氧化鈦、三氧化鎢、二硫化鉬；

所述采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極的制備方法包括以下步驟：

（1）光纖內層的制備：采用塑料光纖作為光纖內層的材料，將塑料光纖切割成小段，使用砂紙將小段塑料光纖的一端加工成磨砂面；

（2）導電膜層的制備：采用直流濺射法在 步驟（1）打磨好的小段塑料光纖上鍍導電膜，得到導電光纖；

（3）光電材料層的制備：采用蘸取法或電化學沉積法在導電光纖磨砂端的導電膜層上制備光電材料層。

2.根據權利要求1所述的采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極，其特征在于：步驟（1）所述塑料光纖的直徑不大于1.0毫米，其纖芯材料為改性聚甲基丙烯甲酯PMMA，包層材料為環氧樹脂，透明無色，最小彎曲半徑為10倍光纖直徑，傳白光長度25~30米，光纖規格公差為直徑的6%。

3.根據權利要求1所述的采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極，其特征在于：所述步驟（2）具體為：采用直流濺射法在步驟（1）打磨好的小段塑料光纖上鍍導電膜，導電膜材料選用氧化銦錫或摻氟氧化錫，鍍膜采用鍍膜機。

4.根據權利要求1所述的采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極，其特征在于：所述步驟（3）具體如下：蘸取法制備：將預先制備好的光電半導體納米顆粒，用溶劑分散，用光纖磨砂端蘸取該分散液，烘干，該過程重復3次，即在導電膜層上負載了光電材料層。

5.根據權利要求1所述的采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極，其特征在于：所述步驟（3）具體如下：電化學沉積法制備：采用三電極系統，步驟（2）得到的導電光纖作為工作電極，以光電半導體鹽溶液作為電解液，鉑絲電極為對電極，Ag/AgCl電極作為參比電極，進行電化學沉積即可在導電光纖磨砂端上生長光電材料層。

6.根據權利要求4或5所述的采用電極內部光照模式的光電化學光纖微電極，其特征在于：所述光電半導體包括氧化鋅、二氧化鈦、三氧化鎢、二硫化鉬。