[發明專利]一種反熔絲單元工藝質量監控測試電路有效
| 申請號: | 202110644497.0 | 申請日: | 2021-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN113380655B | 公開(公告)日: | 2022-08-16 |
| 發明(設計)人: | 鄭若成;王印權;鄭良晨;胡君彪;郝新焱 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第五十八研究所 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;H01L21/67 |
| 代理公司: | 無錫派爾特知識產權代理事務所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 楊立秋 |
| 地址: | 214000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 反熔絲 單元 工藝 質量 監控 測試 電路 | ||
1.一種反熔絲單元工藝質量監控測試電路,包括譯碼器、存儲器、靈敏放大器、編程模塊、控制模塊和電源端口VDD端、VCC端與GND端,其特征在于,所述譯碼器、存儲器和靈敏放大器依次連接在一起,所述靈敏放大器,編程模塊并聯在一起,所述靈敏放大器和所述編程模塊均與所述控制模塊相連,所述譯碼器上連接有輸入端口Am-A0端和An-Am+1端,所述靈敏放大器和編程模塊上并聯有輸出端口DQn~DQ0,所述存儲器上連接有電阻校驗端口R1和R2,所述控制模塊上設有輸入端、端和端,所述編程模塊和VCC端連接在一起;所述存儲器包括選擇管M1、選擇管M2,限流管M3、限流管M4以及高壓隔離管M5,反熔絲單元AF1、反熔絲單元AF2,連接節點S1、連接節點S2,狀態節點Q1、狀態節點Q2,輸入使能CE_OE_PE,行列地址BL、行列地址WL1,WL2,選擇管M1和選擇管M2柵極連接在一起,選擇管M1和限流管M3源漏相連,其連接點為S1節點;選擇管M2和限流管M4源漏相連,其連接點為S2節點;反熔絲單元AF1與選擇管M1并聯,反熔絲單元AF2與選擇管M2并聯;高壓隔離管M5源漏分別連接狀態節點Q1和Q2,狀態節點Q1連接行列地址BL;限流管M3的柵端連接行列地址WL1,源端接地;限流管M4的柵端連接行列地址WL2,源端接地;選擇管M1和選擇管M2的漏極連接狀態節點Q1。
2.根據權利要求1所述的一種反熔絲單元工藝質量監控測試電路,其特征在于:存儲器包括讀出電路,所述讀出電路包括上拉管M6以及反相器INV1,狀態節點Q2、Q3,高壓隔離管M5為存儲陣列輸出隔離管,對應輸出狀態節點Q2連接在M6源端和INV1的輸入端,M6漏端連接電源,反相器INV1輸出端的狀態節點Q3作為讀出信號最終輸出。
3.根據權利要求1所述的一種反熔絲單元工藝質量監控測試電路,其特征在于:存儲器容量為16kbit~1Mbit。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





