[發(fā)明專利]一種石英音叉的加工方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110639910.4 | 申請日: | 2021-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN113376961A | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 林家海 | 申請(專利權)人: | 浙江一晶科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/24;C23C14/02;C23C14/58;B08B3/12 |
| 代理公司: | 杭州橙知果專利代理事務所(特殊普通合伙) 33261 | 代理人: | 杜放 |
| 地址: | 317700 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 石英 音叉 加工 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種石英音叉的加工方法,包括以下步驟:a:將配制后的處理液倒入燒杯內,同時將石英音叉元件均勻的布置在燒杯內,將燒杯放入超聲波槽內進行超聲,超聲后排出燒杯內處理液,將燒杯內的石英音叉元件用冷熱交替純水流水沖洗,再用去離子水流水沖洗,并進行二次超聲;b:采用真空濺射和真空熱蒸發(fā)對基本元件進行鍍膜;c:采用光刻機將石英音叉元件第一面進行光刻;d:將第一面光刻后的石英音叉元件放入腐蝕液中;e:采用光刻機套刻第二面音叉圖形,采用黑白十字標記套準;f:將第二面光刻后的基本元件放入腐蝕液中,剝離除光刻膠;g:采用氫氟酸和氟化銨溶液對基本元件進行化學腐蝕。
技術領域
本發(fā)明涉及音叉加工技術領域,尤其是涉及一種石英音叉的加工方法。
背景技術
石英音叉具有體積小、成本低、功耗小、可靠性高、抗過載能力強及可批量生產等優(yōu)點,使其適用于戰(zhàn)術武器指導、微小衛(wèi)星姿態(tài)控制、微小飛行器導航、作戰(zhàn)平臺穩(wěn)定控制及微小型機器人等軍事領域,又可廣泛應用于汽車穩(wěn)定控制系統(tǒng)、相機防抖系統(tǒng)、醫(yī)療儀器、運動機械及玩具等民用領域。Cr/Au掩模工序是制作石英音叉的中藥工序,影響石英音叉元件Cr/Au掩模的因素很多,主要有石英音叉元件的表面質量即清潔處理、制備薄膜的加工工藝及參數,制作出優(yōu)良的Cr/Au掩模是石英音叉整個工藝的基礎,現有Cr/Au掩模應力較大、附著力差、耐腐蝕性差。
發(fā)明內容
本發(fā)明為了克服現有技術的不足,提供一種石英音叉的加工方法,Cr/Au掩模的應力小、附著力強、耐腐蝕性好,最終制備出來的石英音叉質量好。
為了實現上述目的,本發(fā)明采用以下技術方案:一種石英音叉的加工方法,包括以下步驟:
a:對石英音叉元件清潔,將配制后的處理液倒入燒杯內,同時將石英音叉元件均勻的布置在燒杯內,將燒杯放入超聲波槽內進行超聲,超聲后排出燒杯內處理液,將燒杯內的石英音叉元件用冷熱交替純水流水沖洗,再用去離子水流水沖洗,將沖洗后的石英音叉元件和C2H5OH倒入燒杯內二次超聲,二次超聲后排出C2H5OH并對石英音叉元件烘干;
b:鍍制Cr/Au掩模,將清潔完成后的石英音叉元件固定在掩模夾具上,采用真空濺射和真空熱蒸發(fā)對基本元件進行鍍膜,對基本元件鍍制兩層金屬膜,第一層為Cr膜,第二層為Au膜;
c:光刻音叉第一面,采用光刻機將石英音叉元件第一面進行光刻;
d:音叉第一面掩模刻蝕,將第一面光刻后的石英音叉元件放入腐蝕液中;
e:套刻音叉第二面,采用光刻機套刻第二面音叉圖形,采用黑白十字標記套準;
f:音叉第二面掩模刻蝕,將第二面光刻后的基本元件放入腐蝕液中,剝離除光刻膠;
g:石英化學腐蝕,采用氫氟酸和氟化銨溶液對基本元件進行化學腐蝕。
優(yōu)選的,所述步驟a中的處理液為500mlH202和500ml純水及250mlHCL,超聲波槽內水平面與燒杯內處理液面位于同一平面上,燒杯位于超聲波槽內往復移動;熱水溫度為50-70℃,冷水溫度為0-2℃,熱水冷水交替沖洗時間為10min;離子水流水沖洗為8min,一次超聲時間為30min,二次超聲時間為10min。
優(yōu)選的,所述步驟b中的掩模夾具以5r/min的速率勻速自傳,熱蒸發(fā)源為多個,濺射源呈10°角進行上下連續(xù)擺動。
優(yōu)選的,所述步驟g中的氫氟酸和氟化銨配比為體積比2:1,對基本元件腐蝕分兩步,先慢速腐蝕,然后提高腐蝕溫度至80℃,并增加氫氟酸的濃度。
優(yōu)選的,所述慢速腐蝕溫度為60℃,腐蝕時間為40h。
優(yōu)選的,所述增加氫氟酸的濃度,氫氟酸和氟化銨配比為體積比1:1,腐蝕時間為50h。
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