[發明專利]一種新型端粒酶觸發DNA納米機器及其構建方法

有效

• 申請號: 202110635109.2
• 申請日: 2021-06-08
• 公開（公告）號: CN113368239B
• 公開（公告）日: 2022-11-15
• 發明（設計）人: 李英;付卓林;任春年;程思敏;石穎
• 申請（專利權）人: 青島科技大學
• 主分類號: A61K48/00
• 分類號: A61K48/00
• 代理公司: 青島高曉專利事務所(普通合伙) 37104
• 代理人: 付麗麗

1.一種新型端粒酶觸發DNA納米機器，其特征在于，包括金納米粒子、探針機械臂序列S1、端粒酶引物序列S2、ATP適體序列S3、反義DNA序列S4，探針機械臂序列S1 5'端的巰基連接在金納米粒子上，探針機械臂序列S1靠近3'端的部分序列形成環狀結構，端粒酶引物序列S2與探針機械臂序列S1互補雜交形成莖-環結構，ATP適體序列S3 3'端的巰基連接在金納米粒子上，反義DNA序列S4與ATP適體序列S3互補雜交，其中，S1序列為5'-SH-GGG TTAGGG CTT CCT CCG CAA TTT TTT TTT TTT TTT TTT TT CCC TAA CCC TAA CTC TGC TCGACG GATT TTT-3'，S2序列為5’-AAT CCG TCG AGC AGA GTT-3’，S3序列為5'-ACC TGG GGGAGT ATT GCG GAG GAA GGT TGG-SH-3'，S4序列為5'-CCC AGC CTT CCA GCT CCT TGA TCCCCC-3'，所述ATP適體序列S3 5'端修飾雙模式成像基團，通過調整雙模式成像基團與金納米粒子之間的距離，實現熒光-表面增強拉曼散射雙模式腫瘤細胞成像，DNA納米機器未運行時，雙模式成像基團與金納米粒子之間的距離較遠，此時有熒光信號，DNA納米機器運行后，雙模式成像基團與DNA納米機器之間的距離越來越近，熒光信號逐漸消失，拉曼信號逐漸增強。

2.根據權利要求1所述的新型端粒酶觸發DNA納米機器，其特征在于，所述雙模式成像基團為Cy3、Cy5或ROX。

3.根據權利要求2所述的新型端粒酶觸發DNA納米機器，其特征在于，所述反義DNA序列S4的3'端修飾光敏劑。

4.根據權利要求3所述的新型端粒酶觸發DNA納米機器，其特征在于，所述光敏劑為光敏劑二氫卟吩E6(Ce6)、亞甲基藍或hemin。

5.一種權利要求1所述新型端粒酶觸發DNA納米機器構建方法，其特征在于，具體包括以下步驟：

(1)在ATP適體序列S3 5'端修飾雙模式成像基團，探針機械臂序列S1、端粒酶引物序列S2、ATP適體序列S3和反義DNA序列S4進行退火處理；

(2)取冷卻后的S3和S4于EP管中，振蕩充分反應；

(3)將退火冷卻后的S1和S2與AuNPs混合，震蕩過夜，然后加入步驟(2)中S3、S4混合溶液，繼續振蕩至充分反應；

(4)加入NaCl溶液溶液進行老化處理，離心、清洗，即得到DNA納米機器探針。

6.一種權利要求1所述新型端粒酶觸發DNA納米機器構建方法，其特征在于，在步驟(1)所述反義DNA序列S4 3'端修飾光敏劑。