[發明專利]一種適用于高溫高壓純氫氣環境的釤鈷永磁體的制備方法有效
| 申請號: | 202110634464.8 | 申請日: | 2021-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN113451038B | 公開(公告)日: | 2023-05-02 |
| 發明(設計)人: | 趙宇;徐道兵;樊金奎;王棟;雷建;卓宇 | 申請(專利權)人: | 杭州永磁集團有限公司 |
| 主分類號: | H01F41/02 | 分類號: | H01F41/02 |
| 代理公司: | 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109 | 代理人: | 俞潤體 |
| 地址: | 311201 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 適用于 高溫 高壓 氫氣 環境 永磁體 制備 方法 | ||
1.一種釤鈷永磁體的制備方法,其特征在于包含以下步驟:
(1)按元素配比配料后將原料在惰性環境下熔煉得到合金鑄錠或鑄片;
(2)將所得鑄錠或鑄片在通氮氣條件下破碎處理,隨后在惰性環境下經氣流磨制得釤鈷粉體;
(3)將所得釤鈷粉體在惰性環境及磁場中取向成型,然后冷等靜壓,得到釤鈷磁體生坯;
(4)將釤鈷磁體生坯在惰性環境下燒結及固溶處理,得到燒結釤鈷磁體毛坯,隨后在惰性環境下時效處理得到釤鈷磁體;
(5)對釤鈷磁體表面清潔處理,采用磁控濺射鍍膜設備在釤鈷磁體表面依次鍍含Ni、Cu和NiCu合金中的一種或多種的基體鍍層、AlCrZnN鍍層和DyNiAl鍍層;AlCrZnN鍍層的厚度為6-15μm,AlCrZnN鍍層中AlZn的含量為45-55wt%;DyNiAl鍍層的厚度為4-8μm,DyNiAl鍍層中的Dy的含量為0.05-0.1wt%。
2.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,按Sm(Co1-x-y-vFexCuyZrv)z進行配料,其中x=0.18~0.26,y=0.14~0.2,v=0.01~0.03,z=7.0~7.5;z為過渡族元素Co、Fe、Cu、Zr與稀土元素Sm的原子比。
3.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述釤鈷粉體的粒度為3.8-4.5μm。
4.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述磁場的磁場強度為1-5T,所述冷等靜壓的壓力為180-230MPa。
5.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,
所述燒結的溫度為1170-1230?℃,時間為1~5?h;
所述固溶的溫度1165~1195?℃,時間為2~5?h,固溶后快冷至室溫;
所述時效的過程為在800~850?℃保溫5~40?h,隨后以0.5~1?℃/min降溫至400~500?℃,保溫5~20?h,然后風冷或隨爐自然冷卻至常溫。
6.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)-(4)中,所述惰性環境為氬氣環境。
7.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(5)中,所述基體鍍層的厚度為2-6μm。
8.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(5)中,所述表面清潔處理包括酸洗處理和/或磷化處理。
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