[發(fā)明專利]用于多模態(tài)成像及診療的近紅外二區(qū)聚集誘導(dǎo)發(fā)光分子及其應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110632855.6
• 申請(qǐng)日: 2021-06-07
• 公開（公告）號(hào): CN113831331A
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐本忠;許文涵;王東
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 香港科技大學(xué)
• 主分類號(hào): C07D409/14
• 分類號(hào): C07D409/14;C09K11/06;A61K41/00;A61K49/00;A61K49/22;A61P35/00;B82Y5/00
• 代理公司: 北京匯知杰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11587
• 代理人: 楊巍;柴春玲

1.由下式(I)表示的化合物：

其中，n為0-5的整數(shù)，優(yōu)選地，n為2；

R₁是分子轉(zhuǎn)子，選自

X是鍵或共軛部分，如任選取代的苯基、任選取代的雜芳基、或-C＝C-；

R₂選自或其鎓鹽或者或其鎓鹽

R₃和R₄為苯環(huán)任意位置的取代基，優(yōu)選為N的對(duì)位取代基，各自獨(dú)立地選自H、任選取代的C₁-C₆烷基、任選取代的C₂-C₆不飽和烷基、任選取代的C₁-C₆雜烷基、任選取代的C₃-C₆環(huán)烷基、任選取代的C₃-C₆雜環(huán)烷基、任選取代的C₆-C₁₀芳基、或任選取代的C₅-C₁₀雜芳基；

R₅和R₆各自獨(dú)立地選自H、-CH₃、CH₃CH₂-、-CH₂CH₂NH₂、-CH₂CH₂OH、-CH₂CH₂NH₃⁺。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中，所述鎓鹽是三氟甲基磺酸鹽、六氟磷酸鹽、或四氟化硼鹽，優(yōu)選為三氟甲基磺酸鹽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物，其由下式(II)表示：

其中，R₃和R₄各自獨(dú)立地選自H、任選取代的C₁-C₆烷基、任選取代的C₂-C₆不飽和烷基、任選取代的C₁-C₆雜烷基、任選取代的C₃-C₆環(huán)烷基、任選取代的C₃-C₆雜環(huán)烷基、任選取代的C₆-C₁₀芳基、或任選取代的C₅-C₁₀雜芳基；

R₅選自H、-CH₃、CH₃CH₂-、-CH₂CH₂NH₂、-CH₂CH₂OH、-CH₂CH₂NH₃⁺。