[發明專利]去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝有效
| 申請號： | 202110630896.1 | 申請日： | 2021-06-07 |
| 公開（公告）號： | CN113462994B | 公開（公告）日： | 2022-04-29 |
| 發明（設計）人： | 周青峰;申曦;戴明陽;李龍麟;侯玉婷 | 申請（專利權）人： | 常州世竟液態金屬有限公司 |
| 主分類號： | C22C45/10 | 分類號： | C22C45/10 |
| 代理公司： | 常州至善至誠專利代理事務所(普通合伙) 32409 | 代理人： | 趙旭 |
| 地址： | 213100 江蘇省常州市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 去除 zr 基非晶 合金 基體 氧化物 雜質 真空 熔煉 工藝 | ||
1.一種去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，包括以下步驟，
步驟一：將Zr基非晶合金在爐內進行真空熔煉；
步驟二：在爐內沖入惰性氣體；
步驟三：將鈣線喂入至熔體中；
步驟四：攪拌熔體，使鈣與基體氧化物雜質進行氧化還原反應，形成CaO；
步驟五：靜置一定時間，待CaO上浮后去除；
所述步驟三中鈣線的喂入量滿足以下公式：
W1＝40*(W2*(O1-O2))/(16*δ)
其中，W1表示鈣線的喂入量；W2表示熔煉Zr基非晶合金的總量；O1表示實際含氧量；O2表示目標含氧量；δ表示純鈣線的收得率。
2.根據權利要求1所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述步驟一中將Zr基非晶合金加入坩堝，并將坩堝置于真空感應爐內，隨后加熱至950-1300℃進行熔煉，待熔清后，取樣檢測熔體的實際含氧量。
3.根據權利要求2所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述步驟二中向爐內沖入氬氣，以將真空壓力值增加至200-500pa。
4.根據權利要求3所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述真空感應爐的爐蓋上設有喂絲機構，通過喂絲機構將鈣線密封喂入所述坩堝內。
5.根據權利要求1所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述鈣線的直徑為5-50mm。
6.根據權利要求5所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述鈣線的喂入速度為0.05-1m/s。
7.根據權利要求6所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述鈣線的喂入總時間為20-60s。
8.根據權利要求1所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述步驟四中將真空感應爐的功率提升5％-20％，以進行電磁感應攪拌。
9.根據權利要求1所述的去除Zr基非晶合金中基體氧化物雜質的真空熔煉工藝，其特征在于，所述步驟五中靜置的時間為5-20分鐘。
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