[發明專利]梯度壓力測量系統有效
| 申請號: | 202110629885.1 | 申請日: | 2021-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN113197563B | 公開(公告)日: | 2022-02-11 |
| 發明(設計)人: | 于波;康維;賈海波;陳濤;劉慧敏;徐晨陽 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱醫科大學;全景恒升(北京)科學技術有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/0215 | 分類號: | A61B5/0215 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 劉曾 |
| 地址: | 150000 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 梯度 壓力 測量 系統 | ||
1.一種梯度壓力測量系統,其特征在于,包括:
導絲(100),所述導絲(100)設置有在其長度方向上延伸的容置通道(110),所述導絲(100)的壁上設置有與所述容置通道(110)連通的多個均壓孔(120);
以及多個測壓模塊(200),所述多個測壓模塊(200)在所述容置通道(110)的延伸方向上間隔排布,且所述多個測壓模塊(200)與所述多個均壓孔(120)一一對應,每個所述測壓模塊(200)用于測量對應的所述均壓孔(120)處的壓力;
所述測壓模塊(200)包括光學傳感器(210)、傳導光纖(220)以及第一分色鏡(230),所述傳導光纖(220)設于以及所述光學傳感器(210)均設于所述容置通道(110)中,所述光學傳感器(210)位于對應的所述均壓孔(120)的靠近導絲近端(005)的一側,所述傳導光纖(220)位于所述光學傳感器(210)遠離所述均壓孔(120)的一側;所述光學傳感器(210)具有在所述容置通道(110)的延伸方向上相對設置的第一光面和第二光面,所述傳導光纖(220)與所述第一光面連接,所述第一分色鏡(230)設于所述第二光面上,所述第一分色鏡(230)用于反射設定波長范圍的光束且透過其余波長范圍的光束,多個所述第一分色鏡(230)中任意兩個所述第一分色鏡(230)所反射的光束的波長范圍不重疊;
所述梯度壓力測量系統還包括壓力測量引擎(300)和光源,多根所述傳導光纖(220)中靠近所述導絲近端(005)的傳導光纖(220)設為初始光纖,所述壓力測量引擎(300)以及所述光源均與所述初始光纖連接,所述光源用于發射光束至所述初始光纖,所述壓力測量引擎(300)用于接收由所述光學傳感器(210)反射回來的干涉光,并能依據所述干涉光形成干涉波形。
2.根據權利要求1所述的梯度壓力測量系統,其特征在于:
相鄰所述測壓模塊(200)在所述容置通道(110)的延伸方向上具有間距。
3.根據權利要求2所述的梯度壓力測量系統,其特征在于:
相鄰兩個所述測壓模塊(200)中遠離所述導絲近端(005)的所述測壓模塊(200)的傳導光纖(220)的入射面設置有聚焦透鏡(260)。
4.根據權利要求1所述的梯度壓力測量系統,其特征在于:
所述光學傳感器(210)包括基底(214)和隔膜(215),所述基底(214)與所述隔膜(215)連接且二者共同限定出干涉腔(216),所述隔膜(215)位于所述基底(214)靠近對應的所述均壓孔(120)的一側,所述隔膜(215)用于感應對應的所述均壓孔(120)處的壓力,以在壓力變化時相對于所述基底(214)運動,從而改變所述干涉腔(216)的深度,進而改變對應的所述干涉光的干涉波形;所述第一分色鏡(230)設于所述隔膜(215)遠離所述基底(214)的一側;所述基底(214)靠近所述隔膜(215)的一側用于反射所述設定波長范圍的光束中的部分光,且使所述設定波長范圍內的其余部分光射向所述隔膜(215)且被隔膜(215)反射,同一所述光學傳感器(210)的所述基底(214)反射的光與所述隔膜(215)反射的光形成干涉光。
5.根據權利要求4所述的梯度壓力測量系統,其特征在于:
所述基底(214)上設置有第二分色鏡(240),所述第二分色鏡(240)用于反射所述設定波長范圍的光束中的光束,以使所述設定波長范圍內的其余部分光射向所述隔膜(215)且被隔膜(215)反射;其中,所述第二分色鏡(240)的反射率為(48%-52%)。
6.根據權利要求1所述的梯度壓力測量系統,其特征在于:
同一所述測壓模塊(200)中的所述光學傳感器(210)與所述傳導光纖(220)之間設有聚焦透鏡(260)。
7.根據權利要求1所述的梯度壓力測量系統,其特征在于:
所述傳導光纖(220)外套設有定位環(250),所述定位環(250)與所述導絲(100)的內壁連接。
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