[發明專利]發光裝置

在審

• 申請號: 202110624740.2
• 申請日: 2021-06-04
• 公開（公告）號: CN113833997A
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發明（設計）人: 今堀良政
• 申請（專利權）人: 船井電機株式會社
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;F21V7/00
• 代理公司: 北京五洲洋和知識產權代理事務所(普通合伙) 11387
• 代理人: 劉春成;劉春燕

本發明涉及一種發光裝置，其具有：基板、設置于基板上的多個發光元件和反射片，反射片被設置為在基板上被定位于預定的基準位置，并且具有多個開口分別使發光元件暴露。開口被形成為相對于發光元件中的相應發光元件而第一間距大于第二間距，第一間距位于每個開口與發光元件中的相應發光元件之間并且位于比發光元件中的相應發光元件更遠離基準位置的位置處，并且第二間距位于每個開口與發光元件中的相應發光元件之間并且位于比發光元件中的相應發光元件更接近基準位置的位置處。

相關申請的交叉引用

本申請要求享有2020年6月5日遞交的日本專利申請No.2020-098847的優先權。在此，日本專利申請No.2020-098847的全部公開內容通過引用并入本文。

技術領域

本發明總體涉及一種發光裝置。更具體地，本發明涉及一種具有基板、多個發光元件和反射片的發光裝置。

背景技術

一些發光裝置具有基板、多個發光元件和反射片(例如，參見日本專利申請公開No.2011-181219(專利文獻1))。

上述專利文獻1中描述的發光裝置使用具有在發光元件的位置處形成有多個開口(開口部)的反射片。作為反射片的材料，使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

在具有基板、設置在基板上的多個發光元件和具有形成在發光元件的位置處的多個開口的反射片的發光裝置中，盡管在上述專利文獻1中沒有描述，但是當基板和反射片相對于彼此附著時，附著位置可能發生變化。另外，由基板與反射片之間的不同材料引起的線性膨脹系數的差異導致基板與反射片的開口之間由溫度變化引起的相對位置偏移。溫度變化(線性膨脹系數差異)所導致的位置偏移能夠導致反射片的開口的周緣與發光元件之間的接觸。開口的周緣與發光元件之間的接觸可能導致非預期的力作用在發光元件上，或者根據位置偏移，發光元件可能被反射片所覆蓋。為了防止由溫度變化(線性膨脹系數差異)引起的位置偏移所導致的這些不便，反射片的開口的開口面積被設計為比發光元件的外周大。另外，因為由溫度變化引起的反射片的膨脹量和收縮量大致彼此相等，所以開口通常形成為以使發光元件在平面圖中設置于開口的中心。

在此，一般的發光裝置采用例如聚對苯二甲酸乙二醇酯的樹脂材料作為反射片的材料。作為本發明人對反射片的深入研究的結果，已經發現當這種樹脂片在高溫環境下長期使用時，其收縮并結晶，并且出現不可逆的熱收縮，其中收縮即使在溫度降低時也不會恢復到原始狀態。該熱收縮是與線性熱膨脹所導致的收縮分別發生的一種現象。由加熱引起的反射片的不可逆的收縮導致開口的周緣與發光元件的外周之間的間距發生變化。由于反射片的不可逆的熱收縮，這改變了發光元件與反射片的開口之間的相對位置，并且改變了發光元件周圍的反射片放置分布。其結果是，與開始使用發光裝置時在優化的相對位置處的亮度分布相比，在長期使用后的亮度分布將發生變化并且亮度均勻性將降低。

上述專利文獻1描述了使用聚對苯二甲酸乙二醇酯作為反射片的材料，但是其并沒有考慮到在開始使用發光裝置后由加熱引起的反射片的不可逆的收縮。換言之，尚未解決在長期使用發光裝置后由反射片的不可逆的熱收縮所導致的發光元件與反射片的開口之間的相對位置的變化引起的亮度均勻性的降低的問題。因此，在上述專利文獻1中，難以抑制由反射片的不可逆的熱收縮所導致的發光元件與反射片的開口之間的相對位置的變化引起的亮度均勻性的降低，同時難以抑制基板與反射片之間的線性膨脹系數的差異所導致的不便。

發明內容

本公開的目的之一是提供一種發光裝置，其能夠抑制在長期使用發光裝置后由反射片的不可逆的熱收縮所導致的發光元件與反射片的開口的相對位置的變化引起的亮度均勻性的降低，同時抑制基板與反射片之間的線性膨脹系數的差異所導致的不便。