[發(fā)明專利]一種基于應力分布的變密度點陣結構及其設計方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110612801.3 | 申請日： | 2021-06-02 |
| 公開（公告）號： | CN113326582B | 公開（公告）日： | 2022-10-25 |
| 發(fā)明（設計）人： | 易輝成;易杰;唐鋒 | 申請（專利權）人： | 湖南工業(yè)職業(yè)技術學院 |
| 主分類號： | G06F30/17 | 分類號： | G06F30/17;G06F30/23;G06F111/06;G06F111/10;G06F113/10;G06F119/14 |
| 代理公司： | 長沙智德知識產權代理事務所(普通合伙) 43207 | 代理人： | 陳銘浩 |
| 地址： | 410205 *** | 國省代碼： | 湖南;43 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 應力 分布 密度 點陣 結構 及其 設計 方法 | ||
1.一種基于應力分布的變密度點陣結構設計方法，其特征在于，包括如下步驟：
對加載有預設載荷的初始結構進行有限元分析，獲取所述初始結構中各個單元節(jié)點上的節(jié)點等效應力；
以所述節(jié)點等效應力為自變量，以類桁架結構的圓截面半徑為因變量，建立所述節(jié)點等效應力與點陣結構參數(shù)之間的應力匹配函數(shù)；
基于有限元網格構建變密度點陣結構，所述變密度點陣結構為類桁架結構；
以所述應力匹配函數(shù)的系數(shù)為變量，對所述變密度點陣結構進行優(yōu)化計算，得出最優(yōu)點陣結構；其中，
當結構的變形處于線性階段時，所述應力匹配函數(shù)為線性函數(shù)，即：
f(σi)＝aσi+b
式中，σi為有限元模型上第i個節(jié)點上的節(jié)點等效應力，f(σi)為i節(jié)點處的點陣結構中桁架圓截面尺寸，a、b為應力匹配函數(shù)的系數(shù)。
2.如權利要求1所述的基于應力分布的變密度點陣結構設計方法，其特征在于，當結構的變形處于非線性階段時，所述應力匹配函數(shù)為二階函數(shù)，即：
式中，σi為有限元模型上第i個節(jié)點上的節(jié)點等效應力，f(σi)為i節(jié)點處的點陣結構中桁架圓截面尺寸，a、b、c為應力匹配函數(shù)的系數(shù)。
3.如權利要求1或2所述的基于應力分布的變密度點陣結構設計方法，其特征在于，所述以所述應力匹配函數(shù)的系數(shù)為變量，對所述變密度點陣結構進行優(yōu)化計算，得出最優(yōu)點陣結構的步驟包括：
以所述應力匹配函數(shù)的系數(shù)為設計變量、最大節(jié)點等效應力為約束條件、所設計結構的質量最小為優(yōu)化目標，完成所述點陣結構的優(yōu)化計算。
4.如權利要求1所述的基于應力分布的變密度點陣結構設計方法，其特征在于，所述最優(yōu)點陣結構包括四面體結構、六面體結構和楔形體結構。
5.一種基于應力分布的變密度點陣結構，其特征在于，該結構是根據(jù)如權利要求1至4任一項所述的變密度點陣結構設計方法設計出的結構。
6.如權利要求5所述的變密度點陣結構，其特征在于，所述變密度點陣結構由增材制造技術加工。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于湖南工業(yè)職業(yè)技術學院，未經湖南工業(yè)職業(yè)技術學院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110612801.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種調質線卸料裝置
- 下一篇：顯示面板及其制作方法和顯示裝置
