[發明專利]口腔印模及其成像方法在審
| 申請號： | 202110611919.4 | 申請日： | 2021-06-02 |
| 公開（公告）號： | CN114028013A | 公開（公告）日： | 2022-02-11 |
| 發明（設計）人： | 田方俊;姜梅瑛 | 申請（專利權）人： | 上海博恩登特科技有限公司;奧珮影像有限責任公司 |
| 主分類號： | A61C9/00 | 分類號： | A61C9/00;A61B6/14;A61B6/03 |
| 代理公司： | 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 陳紅橋 |
| 地址： | 201801 上海市嘉定*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 口腔 印模 及其 成像 方法 | ||
1.一種口腔印模的成像方法，其特征在于，所述口腔印模的表面附有高Z元素材料的涂層，所述成像方法包括：
所述口腔印模垂直放置在口腔CBCT系統的牙托上；
利用所述口腔CBCT系統，采集所述口腔印模平均投影數據，以獲取口腔印模圖像。
2.根據權利要求1所述的口腔印模的成像方法，其特征在于，所述高Z元素材料包括：碘元素材料、金元素納米顆粒材料、鋇元素材料，釓元素材料、錳元素材料、汞元素材料、鎢元素材料、銀元素材料、鉑元素材料、鉛元素材料、鋨元素材料。
3.根據權利要求1所述的口腔印模的成像方法，其特征在于，所述口腔印模的表面涂層通過噴粉或浸泡實現。
4.根據權利要求1所述的口腔印模的成像方法，其特征在于，還包括：
根據所述高Z元素材料離子的K-edge(K邊緣)設置所述CBCT系統的X光源電壓。
5.根據權利要求1所述的口腔印模的成像方法，其特征在于，還包括：
對采集的所述口腔印模的平均投影數據進行物理以及幾何校正。
6.一種口腔印模，其特征在于，所述口腔印模的表面附有高Z元素材料的涂層。
7.根據權利要求6所述的口腔印模，其特征在于，所述高Z元素材料包括：碘元素材料、金元素納米顆粒材料、鋇元素材料，釓元素材料、錳元素材料、汞元素材料、鎢元素材料、銀元素材料、鉑元素材料、鉛元素材料、鋨元素材料。
8.根據權利要求6所述的口腔印模，其特征在于，所述口腔印模的表面涂層通過噴粉或浸泡實現。
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