[發明專利]觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法

在審

• 申請號: 202110607548.2
• 申請日: 2021-06-01
• 公開（公告）號: CN113324877A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 徐春;丁亞飛;孫士陽;馬冰洋;彭睿智
• 申請（專利權）人: 上海應用技術大學
• 主分類號: G01N13/00
• 分類號: G01N13/00
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 王晶;徐俊

1.一種觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：首先，在低真空的加熱爐中構建一個與加熱爐真空腔室不產生氣體交換的極低氧分壓石英密封室，然后對密封室中的鋁、鎂金屬進行加熱至熔化，實現對密封室內鋁、鎂熔液與陶瓷試片潤濕角觀察和測量。

2.根據權利要求1所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述在低真空的加熱爐中構建一個與加熱爐真空腔室不產生氣體交換的極低氧分壓石英密封室的具體方法是：將石英杯倒置于一個帶有凹槽的金屬或陶瓷底座上，凹槽中放置銦錫合金，對加熱爐真空腔室抽真空，并可充入惰性氣體，加熱至凹槽中銦錫合金熔化后實現對石英杯內空間的密封，獲得一個與加熱爐真空腔室不產生氣體交換的密封室。

3.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的帶有凹槽的金屬或陶瓷底座上預先放置陶瓷試片，并在陶瓷試片上放置鋁或鎂或以它們為基的合金的試塊。

4.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的石英杯的外頂部設有用于產生壓力的小重物。

5.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的加熱爐真空腔室內的真空度抽至于10^-1Pa。

6.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的石英杯內放置用于進一步降低密封室內氧、氮分壓的鋁粉，以消耗密封室內殘存的氧氣和氮氣。

7.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的金屬或陶瓷底座采用能夠被銦錫合金潤濕的鋼、石英和氧化鋁中的一種。

8.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的銦錫合金中的銦含量為30-60％，獲得120-180℃的熔化溫度，能夠在此溫度范圍內實現對密封室的密封。

9.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的鋁或鎂試塊包括純鋁或純鎂以及以它們為基的各種合金；所述的陶瓷試片采用氧化鋁、氮化鋁或氮化硅的陶瓷。

10.根據權利要求2所述的觀測鋁、鎂熔液潤濕角的極低氧分壓密封室座滴法，其特征在于：所述的充入的惰性氣體為與鋁、鎂不產生化學反應的氣體，壓強范圍為50～500Pa。