[發明專利]原位形成微納氣泡拋光液、其制備方法及其應用有效
| 申請號： | 202110607372.0 | 申請日： | 2021-06-01 |
| 公開（公告）號： | CN113502128B | 公開（公告）日： | 2022-07-12 |
| 發明（設計）人： | 雷紅;徐磊;丁如月;張瑋;袁曉玥 | 申請（專利權）人： | 上海大學 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顧勇華 |
| 地址： | 200444*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 原位 形成 氣泡 拋光 制備 方法 及其 應用 | ||
1.一種原位形成微納氣泡的拋光液，其特征在于，是在拋光過程中在拋光區域形成納米～微米級氣泡的拋光液；通過向堿性硅溶膠中添加硼氫化鈉，攪拌均勻，得到含有硼氫化鈉的堿性硅溶膠拋光液；在拋光過程中，拋光墊-磨粒-被拋光材料表面三體摩擦所產生的摩擦熱，促進了硼氫化鈉的水解反應，在拋光區域聚集形成微納氫氣氣泡，同時形成的微納氣泡在剪切力作用下發生爆破，釋放出能量，輔助增強拋光過程；按照質量百分計算，其中的硼氫化鈉固體質量分數為0.1～0.7wt.％，拋光液pH為10±0.5；二氧化硅磨粒固體質量分數不高于5wt.％，二氧化硅磨粒粒徑不大于110nm。
2.根據權利要求1所述原位形成微納氣泡的拋光液，其特征在于：原位形成的微納氣泡的直徑尺寸為0.1μm～100μm。
3.一種權利要求1所述原位形成微納氣泡拋光液的制備方法，其特征在于，通過向堿性硅溶膠中添加硼氫化鈉制備拋光液，其方法步驟如下：
(1)向硅溶膠中加入去離子水，并采用質量百分比濃度不低于3wt.％的NaOH溶液調節混合溶液pH為10±0.5，得到稀釋后的堿性硅溶膠；
(2)將硼氫化鈉、質量百分比濃度不低于1.0wt.％的聚乙二醇醚，在攪拌下依次加入到在所述步驟(1)中得到的堿性硅溶膠中，攪拌均勻，得到含有硼氫化鈉的堿性硅溶膠拋光液。
4.根據權利要求3所述原位形成微納氣泡的拋光液的制備方法，其特征在于，在所述步驟(1)中，硅溶膠中的磨粒質量百分比含量不低于20wt.％，磨粒粒徑不大于110nm。
5.根據權利要求3所述原位形成微納氣泡的拋光液的制備方法，其特征在于，在所述步驟(1)中，將硅溶膠與去離子水按照質量比為1:3進行混合。
6.根據權利要求3所述原位形成微納氣泡的拋光液的制備方法，其特征在于，在所述步驟(2)中，按照質量百分計算，硼氫化鈉的添加量為堿性硅溶膠的0.1～0.7wt.％。
7.一種權利要求1所述原位形成微納氣泡的拋光液的應用，其特征在于：原位形成微納氣泡的拋光液為含有硼氫化鈉的堿性硅溶膠拋光液，采用含有硼氫化鈉的堿性硅溶膠拋光液，應用于二氧化硅晶片元件表面的拋光過程，利用拋光過程中的摩擦誘導使硼氫化鈉分解產生微納氣泡，微納氣泡破裂產生釋放能量，輔助增強拋光過程。
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