[發明專利]一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統有效
| 申請號: | 202110604407.5 | 申請日: | 2021-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN113359288B | 公開(公告)日: | 2023-03-21 |
| 發明(設計)人: | 袁浚瀟;侯宜棟;楊秀;吳軒楠;高福華;杜驚雷 | 申請(專利權)人: | 四川大學 |
| 主分類號: | G02B21/10 | 分類號: | G02B21/10;G02B21/18;G02B21/00 |
| 代理公司: | 北京同恒源知識產權代理有限公司 11275 | 代理人: | 趙榮之 |
| 地址: | 610065 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 暗場 散射 顯微 成像 光譜 測試 系統 | ||
1.一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于,包括至少一個光源(1)、一個光纖探頭(2)、第一曲面反射鏡(4)、第二曲面反射鏡(9)、第三曲面反射鏡(11)、第四曲面反射鏡(13)、至少一個光闌(5),2個平面反射鏡(3、6)、半透半反鏡(10),三維調節臺(8),光譜儀(12)、CCD(14)、待測樣品(7);
散射光路沿入射光經過順序依次為第一平面鏡、第一曲面反射鏡、光闌、第二曲面反射鏡、待測樣品、第二平面鏡、第三曲面鏡、第三曲面反射鏡,最后匯聚于光譜儀探頭;在散射光路中,入射的非平行光經過第一曲面反射鏡之后轉化為平行光,平行光經過光闌后,經過第二曲面反射鏡后聚焦待測樣品發生散射,散射光再經過第二曲面反射鏡反射后仍為平行光,與入射平行光平行的方向出射,經過半透半反鏡分為兩路光線,一路經第三曲面反射鏡匯聚于光譜儀探頭,一路經過第四曲面鏡匯聚于CCD探頭,同時進行顯微成像和光譜;
所述第一曲面反射鏡(4)、第二曲面反射鏡(9)均為凹面反射鏡,放置于同一光軸上,反射面彼此相對,入射光、散射光共用一段光路,起到縮小體積的作用。
2.如權利要求1所述的一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于:所述光纖探頭(2)通過光纖與光源(1)相連,且光纖探頭(2)經過平面反射鏡(3)作鏡像對稱后,光纖探頭(2)的鏡像位于第一曲面反射鏡(4)的焦點位置,以保證入射光經過第一曲面反射鏡(4)反射后為平行光出射。
3.如權利要求1所述的一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于:所述光源(1)為可見光、紅外、紫外、太赫茲波段的光源。
4.如權利要求1所述的一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于:所述平面反射鏡(6)、平面反射鏡(3)在光闌(5)方向上的投影,其尺寸與光闌尺寸相同或小于光闌尺寸。
5.如權利要求1所述的一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于:所述三維調節臺(8)的懸臂上設置了穩定作用的支架。
6.如權利要求1所述的一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于:所述待測樣品(7)由三維調節臺(8)調節其位置,使得待測樣品位于第二曲面反射鏡(9)的焦點處,以保證平行入射光經待測樣品(7)散射后、由第二曲面反射鏡(9)反射后為平行光出射。
7.如權利要求1所述的一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于:所述半透半反鏡(10)將出射光分為兩路,同時進行成像和光譜測試。
8.如權利要求1所述的一種暗場散射顯微成像和光譜測試系統,其特征在于:所述第三曲面反射鏡(11)替換為光纖探頭,并連接便攜式光譜儀,以降低成本。
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