[發明專利]高亮發光二極管芯片及其制造方法在審
| 申請號: | 202110601592.2 | 申請日: | 2021-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN113571618A | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發明(設計)人: | 衛婷;尹靈峰;董彬忠;李鵬 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(浙江)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/38 | 分類號: | H01L33/38;H01L33/62;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 呂耀萍 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光二極管 芯片 及其 制造 方法 | ||
本公開提供了一種高亮發光二極管芯片及其制造方法,屬于半導體技術領域。發光二極管芯片的P型電極包括P型焊盤和P型手指,P型手指的一端與P型焊盤連接,P型手指的另一端向遠離P型焊盤的方向延伸,P型手指包括交替連接的多段第一手指和多段第二手指,相鄰兩段第一手指之間通過一段第二手指連接;N型手指和P型手指在襯底上的正投影,位于N型焊盤和P型焊盤在襯底上的正投影之間,且多段第一手指在襯底上的正投影與N型手指在襯底上的正投影平行,從P型焊盤至N型焊盤方向,多段第一手指在襯底上的正投影至N型手指在襯底上的正投影之間的距離逐漸增大。該芯片可以縮短P型手指與芯片邊緣間距,增大芯片邊緣發光效率。
技術領域
本公開涉及半導體技術領域,特別涉及一種高亮發光二極管芯片及其制造方法。
背景技術
發光二極管(Light Emitting Diode,LED)是一種能發光的半導體電子元件。芯片是LED的核心組件。
現有的LED芯片包括襯底、N型半導體層、有源層、P型半導體層、P型電極和N型電極,N型半導體層、有源層和P型半導體層依次層疊在襯底上,P型半導體層上設有延伸至N型半導體層的凹槽,N型電極設置在凹槽內的N型半導體層上,P型電極設置在P型半導體層上。
N型電極和P型電極均包括焊盤部分和手指部分。焊盤部分實現電流的注入。手指部分的一端與焊盤部分連接,手指部分的另一端向遠離焊盤部分的方向延伸,以使電流均勻注入N型半導體層或者P型半導體層。
在實現本發明的過程中,發明人發現現有技術至少存在以下問題:
P型電極的材料會遮擋和吸收有源層發出的光線,而P型電極的手指部分為了實現電流的均勻注入,會分布在整個P型半導體層上,遮擋和吸收的光線較多,對LED芯片的出光影響較大,導致LED芯片的發光亮度降低。
發明內容
本公開實施例提供了一種高亮發光二極管芯片及其制造方法,可以縮短P型手指與芯片邊緣間距,增大芯片邊緣發光效率,改善電流擴散均勻性,提高芯片發光亮度。所述技術方案如下:
一方面,提供了一種高亮發光二極管芯片,所述高亮發光二極管芯片包括襯底、N型半導體層、有源層、P型半導體層、N型電極和P型電極;所述N型半導體層、所述有源層和所述P型半導體層依次層疊在所述襯底的第一表面上;所述P型半導體層上設有延伸至所述N型半導體層的凹槽,所述N型電極設置在凹槽內的所述N型半導體層上,所述P型電極設置在所述P型半導體層上,所述N型電極包括N型焊盤和N型手指,所述N型電極手指呈條狀,所述N型手指的一端與所述N型焊盤連接,所述N型手指的另一端向遠離所述N型焊盤的方向延伸,
所述P型電極包括P型焊盤和P型手指,所述P型手指的一端與所述P型焊盤連接,所述P型手指的另一端向遠離所述P型焊盤的方向延伸,所述P型手指包括交替連接的多段第一手指和多段第二手指,相鄰兩段第一手指之間通過一段所述第二手指連接;
所述N型手指和所述P型手指在所述襯底上的正投影,位于所述N型焊盤和所述P型焊盤在所述襯底上的正投影之間,且所述多段第一手指在所述襯底上的正投影與所述N型手指在所述襯底上的正投影平行,從所述P型焊盤至所述N型焊盤方向,所述多段第一手指在所述襯底上的正投影至所述N型手指在所述襯底上的正投影之間的距離逐漸增大。
可選地,所述P型手指包括交替連接的n段第一手指和n-1段第二手指,3≤n≤20。
可選地,n段所述第一手指的長度之和大于等于n-1段所述第二手指的長度之和。
可選地,從所述P型焊盤至所述N型焊盤方向,每段所述第一手指的長度均為10~300um。
可選地,從所述P型焊盤至所述N型焊盤方向,每段所述第二手指的長度為1~100um。
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