[發明專利]噴砂面鋁合金兩酸化學拋光用氣痕抑制劑及其制備方法

有效

• 申請號: 202110601580.X
• 申請日: 2021-05-31
• 公開（公告）號: CN113293378B
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 昆山市韓鋁化學表面材料有限公司
• 主分類號: C23F3/03
• 分類號: C23F3/03
• 代理公司: 蘇州周智專利代理事務所(特殊普通合伙) 32312
• 代理人: 陳寧

本發明公開了一種噴砂面鋁合金兩酸化學拋光用氣痕抑制劑及其制備方法，屬于鋁合金制件表面化學處理技術領域。該氣痕抑制劑由鉬酸鹽2?3wt.％、緩蝕劑5?10wt.％、表面活性劑10?15wt.％、水10?15wt.％和余量磷酸制備而成；其中緩蝕劑為羥基偶氮磺酸類物質、丙氨酸和丙烯基硫脲混合形成。含有該抑制劑的拋光液在對有孔洞噴砂面鋁合金制件拋光時，可顯著抑制氣痕產生，減少由于氣痕造成的亮度不均；同時可有效縮短拋光時間，從而減少因長拋光時間引起的面花及材料面露出。該抑制劑能夠顯著提高良品率和生產效率，降低生產成本，適用于有孔洞3C產品如筆記本外殼、i PAD外殼、手機外殼等鋁制品的兩酸化學拋光，尤其適用于自動線連續生產用。

技術領域

本發明涉及一種化學拋光用氣痕抑制劑及其制備方法，尤其涉及一種噴砂面鋁合金兩酸化學拋光用氣痕抑制劑及其制備方法，屬于鋁合金制件表面化學處理技術領域。

背景技術

傳統的鋁和鋁合金的化學拋光通常采用含有磷酸、硫酸和硝酸的三酸工藝，但由于硝酸的強氧化性及硝酸本身的特性，在處理過程中容易產生有毒性的氮氧化物；同時由于硝酸濃度的上下波動，會造成拋光表面亮度不均勻。因此目前絕大多數鋁合金的拋光都摒棄了上述的三酸工藝，轉而采用兩酸工藝，即采用磷酸和硫酸進行拋光。

現有技術中采用兩酸工藝對鋁合金表面進行拋光時，仍然存在以下問題：

1、現有兩酸工藝所用添加劑大多是針對鏡面鋁合金制件的，其出光后光澤度非常高，而鮮少有針對噴砂鋁合金制件表面拋光用的添加劑，使噴砂鋁合金制件表面具有一定光澤度的同時，又不會破壞制件表面的噴砂面；

2、現有市場上極少數的適用于噴砂面鋁合金制件拋光的添加劑，其應用于兩酸拋光液中后，進行拋光的時間大多長于120s，甚至有長于180s情況的，其出光時間較長，而較長的出光時間，容易造成產品表面出現流痕、面花、材料紋露出及亮度不均勻等不良現象，從而造成良品率降低；

3、現有市場上的拋光液對表面有孔洞(通孔和/或盲孔)或者字符等的噴砂面鋁合金制件拋光時會產生氣體，該氣體會通過孔洞或字符邊緣處沿制件外壁向上溢出，從而會在工件的表面留下氣痕，拋光時間越長，則氣痕越多越明顯，從而造成良品率降低。

發明內容

為解決上述技術問題，本發明提供了一種噴砂面鋁合金兩酸化學拋光用氣痕抑制劑及其制備方法，該氣痕抑制劑能夠顯著改善有孔洞及字符的噴砂面鋁合金制件表面的氣痕現象，同時出光速度快、亮度均勻且不會破壞制件表面的噴砂面。

本發明的技術方案是：

本發明公開了一種噴砂面鋁合金兩酸化學拋光用氣痕抑制劑，由下述按該氣痕抑制劑總質量百分比計的下述各組分制備而成：鉬酸鹽2-3wt.％、緩蝕劑5-10wt.％、表面活性劑10-15wt.％、水10-15wt.％和余量的磷酸；其中所述緩蝕劑為羥基偶氮磺酸類物質、丙氨酸和丙烯基硫脲混合形成。

其進一步的技術方案是：

所述鉬酸鹽為鉬酸鈉或鉬酸銨中的一種。

其進一步的技術方案是：

所述羥基偶氮磺酸類物質為4-羥基偶氮苯-4’-磺酸。

其進一步的技術方案是：

所述緩蝕劑為4-羥基偶氮苯-4’-磺酸、丙氨酸和丙烯基硫脲按照質量比為(2-3)：(1-2)：1混合形成。

其進一步的技術方案是：

所述表面活性劑為月桂基磺化琥珀酸單酯二鈉、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉和椰油酸單乙醇酰胺中的至少一種。

其進一步的技術方案是：

所述表面活性劑由脂肪醇聚氧乙烯醚和椰油酸單乙醇酰胺按照質量比為(3-5):1混合形成。