[發明專利]一種抑制載流子注入衰減的晶體硅太陽能電池制備方法有效
| 申請號: | 202110601569.3 | 申請日: | 2021-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN113555464B | 公開(公告)日: | 2023-03-10 |
| 發明(設計)人: | 龐瑞卿;陳剛 | 申請(專利權)人: | 天津愛旭太陽能科技有限公司;浙江愛旭太陽能科技有限公司;廣東愛旭科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/324;H01L21/67 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標代理有限公司 44104 | 代理人: | 侯莉;劉彥 |
| 地址: | 300400 天津市北辰區經濟*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 抑制 載流子 注入 衰減 晶體 太陽能電池 制備 方法 | ||
1.一種抑制載流子注入衰減的晶體硅太陽能電池制備方法,包括如下工藝步驟:(1)制絨、(2)高溫氣相擴散、(3)蝕刻清洗、(4)背面氧化鋁鍍膜、(5)氮化硅疊層薄膜鈍化、(6)正面氮化硅薄膜鈍化、(7)背面激光開槽、(8)絲網印刷背面鋁電極和正面銀電極漿料、(9)烘干燒結;其特征在于,所述的(2)高溫氣相擴散過程中進行高溫熱處理后,采用梯度降溫的方式對太陽能電池進行冷卻處理;
所述(2)高溫氣相擴散的具體過程為:
S1:在硅片表面第一次沉積磷源時,維持石英管內恒壓200±20mBar和擴散恒定溫度750±10℃的狀態至少2min后,通入氧氣,氧氣流量為300~1200sccm;通氣2~10min后將石英管內壓強調整至50±5mBar,再通入攜帶三氯氧磷的小氮,流量為140~600sccm,維持3~10min;
S2:重復循環S1的操作,且每次循環的溫度梯度遞增,梯度為10~50℃,且小氮和氧氣流量不低于前一循環的流量;
S3:爐內壓強維持200±20mBar,關閉小氮,保持通入氧氣,流量為200~2000sccm,加熱并保持升溫速率7~20℃/min,達到870±10℃并持續3~10min;控制推進溫度比S2中最后一次循環的擴散溫度高出40~100℃;
S4:停止加熱以及氧氣的通入,維持氮氣流量為1~2SLM,爐內保持真空恒壓并進行梯度降溫,梯度為20~60℃,將溫度降至820±20℃;
S5:將爐內各區溫度控制為820±20℃、壓強為50±5mbar,并通入氧氣,流量為300~1200sccm,維持2~10min后通入攜帶三氯氧磷的小氮,其中小氮流量為140~600sccm,持續3~10min;
S6:重復循環S5的操作,且每次循環的溫度梯度遞減,梯度為10~50℃,且小氮和氧氣流量不低于前一循環的流量;
S7:至爐內溫度降至770℃以下時,石英舟退出,完成高溫氣相擴散。
2.根據權利要求1所述的抑制載流子注入衰減的晶體硅太陽能電池制備方法,其特征在于,S4采用多梯度平臺實現梯度降溫,第一平臺設置為860±20℃,第二平臺設置為840±20℃,第三平臺設置為800±20℃。
3.根據權利要求2所述的抑制載流子注入衰減的晶體硅太陽能電池制備方法,其特征在于,所述的(9)烘干燒結包含烘干、預熱、燒結和降溫四個階段,烘干階段的烘干溫度為100~250℃,烘干時間不少于12s;燒結階段設置預熱段和燒結段,所述的預熱段升溫速率設置為不低于50℃/s,電池在預熱段的停留時間不超過20s;所述燒結段的峰值區設置于中段靠前的位置,電池在燒結段的停留時間不超過5s,峰值溫度不高于760±10℃;降溫階段采用梯度降溫,降溫速度控制為不高于60℃/s。
4.根據權利要求3所述的抑制載流子注入衰減的晶體硅太陽能電池制備方法,其特征在于,還包括(10)正面激光摻雜、(11)退火、以及(12-1)光注入或(12-2)電注入。
5.根據權利要求4所述的抑制載流子注入衰減的晶體硅太陽能電池制備方法,其特征在于,所述的(12-1)光注入中,使用多模塊的光注入熱處理履帶爐,最大輸出功率為20000w/m2,光注入的總時間不少于20s;
第一模塊輻照功率控制為最大輸出功率的90±10%,溫度控制為280±30℃,持續時間為4~20s;
第二模塊輻照功率控制為最大輸出功率的80±10%,溫度控制為250±30℃,持續時間為4~20s;
第三模塊輻照功率控制為<最大輸出功率的70%,溫度控制為230±30℃,持續時間為4~20s。
6.根據權利要求4所述的抑制載流子注入衰減的晶體硅太陽能電池制備方法,其特征在于,所述的(12-1)光注入中,使用與燒結爐集成的光注入裝置,所述的光注入裝置利用燒結階段的余溫/設置加熱裝置,所述的加熱裝置最大輸出功率>3000w,最高加熱溫度為450℃,且前后模塊的平均溫度設置為梯度式下降,梯度為10~40℃,光注入的總時間不少于20s。
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H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





