[發明專利]一種聚焦方法、裝置、電子設備及存儲介質有效
| 申請號: | 202110600744.7 | 申請日: | 2021-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN113347335B | 公開(公告)日: | 2022-08-30 |
| 發明(設計)人: | 陳天鈞;楊熙丞;詹建華;潘潤發;況璐;李準 | 申請(專利權)人: | 浙江大華技術股份有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/225 | 分類號: | H04N5/225;H04N5/232 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 潘平 |
| 地址: | 310053 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 聚焦 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種聚焦方法,其特征在于,所述方法包括:
對圖像采集設備采集的圖像進行標準傅里葉變換,得到彌散斑頻譜圖像;
根據所述彌散斑頻譜圖像確定彌散斑頻譜的徑向平均分布,根據所述彌散斑頻譜的徑向平均分布確定彌散半徑;
根據所述彌散半徑、所述圖像采集設備采集所述圖像時的焦距、光圈和離焦時物距,確定聚焦時物距;
根據所述聚焦時物距確定目標電機位置,根據所述目標電機位置進行聚焦;
確定聚焦調整方向,根據所述聚焦調整方向確定對應的聚焦時物距確定公式,將所述彌散半徑、所述圖像采集設備采集所述圖像時的焦距、光圈和離焦時物距帶入所述聚焦時物距確定公式,確定聚焦時物距;
所述聚焦時物距確定公式為:當,當;D為光圈,f為焦距,u為物距,v為像距,R為彌散半徑,v1為離焦時像距,u1為離焦時物距,v0為聚焦時像距,u0為聚焦時物距。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述確定聚焦調整方向包括:
控制電機在預設調整方向上轉動預設次數的步長,每次轉動結束后,獲取所述圖像采集設備采集到圖像的清晰度評價值,根據獲取到的清晰度評價值的變化趨勢,確定聚焦調整方向。
3.如權利要求2所述的方法,其特征在于,控制電機在預設調整方向上轉動預設次數的步長,每次轉動結束后,所述方法還包括:
獲取所述圖像采集設備的離焦時物距;
根據離焦時物距的變化量和電機位置的變化量,確定物距變化量和電機位置變化量的線性變化關系;
所述根據所述聚焦時物距確定目標電機位置包括:
確定所述聚焦時物距和離焦時物距的變化量,根據所述聚焦時物距和離焦時物距的變化量,以及物距變化量和電機位置變化量的線性變化關系,確定電機位置的目標變化量;
根據圖像采集設備電機當前的位置和所述目標變化量,確定目標電機位置。
4.如權利要求3所述的方法,其特征在于,所述確定所述聚焦時物距和離焦時物距的變化量包括:
控制電機在預設調整方向上轉動預設次數的步長,每次轉動結束后,確定聚焦時物距,并確定聚焦時物距的平均值;
確定聚焦時物距的平均值與在預設調整方向上轉動預設次數的步長結束后獲取的離焦時物距的變化量。
5.一種聚焦裝置,其特征在于,所述裝置包括:
第一確定模塊,用于對圖像采集設備采集的圖像進行標準傅里葉變換,得到彌散斑頻譜圖像;
第二確定模塊,用于根據所述彌散斑頻譜圖像確定彌散斑頻譜的徑向平均分布,根據所述彌散斑頻譜的徑向平均分布確定彌散半徑;
第三確定模塊,用于根據所述彌散半徑、所述圖像采集設備采集所述圖像時的焦距、光圈和離焦時物距,確定聚焦時物距;
聚焦模塊,用于根據所述聚焦時物距確定目標電機位置,根據所述目標電機位置進行聚焦;
所述第三確定模塊,具體用于確定聚焦調整方向,根據所述聚焦調整方向確定對應的聚焦時物距確定公式,將所述彌散半徑、所述圖像采集設備采集所述圖像時的焦距、光圈和離焦時物距帶入所述聚焦時物距確定公式,確定聚焦時物距;
所述聚焦時物距確定公式為:當,當;D為光圈,f為焦距,u為物距,v為像距,R為彌散半徑,v1為離焦時像距,u1為離焦時物距,v0為聚焦時像距,u0為聚焦時物距。
6.如權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述第三確定模塊,具體用于控制電機在預設調整方向上轉動預設次數的步長,每次轉動結束后,獲取所述圖像采集設備采集到圖像的清晰度評價值,根據獲取到的清晰度評價值的變化趨勢,確定聚焦調整方向。
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