[發(fā)明專利]異形顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110598334.3 | 申請日: | 2021-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN113311613A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 薛興皓;袁海江 | 申請(專利權(quán))人: | 惠科股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333;G09F9/302 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 高星 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道石龍社區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 異形 顯示 面板 顯示裝置 制備 方法 | ||
1.一種異形顯示面板,包括:
彩膜基板,所述彩膜基板包括顯示區(qū)和圍繞所述顯示區(qū)外圍的非顯示區(qū),所述顯示區(qū)與所述非顯示區(qū)之間至少具有一條異形邊界,所述彩膜基板具有第一基板和設(shè)置在所述第一基板上的多個邊緣像素單元,所述邊緣像素單元鄰近所述異形邊界設(shè)置;
陣列基板,所述陣列基板與所述彩膜基板相對且間隔設(shè)置;
其特征在于,所述異形顯示面板還包括透明填充層,所述透明填充層位于所述彩膜基板與所述陣列基板之間,且所述透明填充層的至少部分區(qū)域?qū)?yīng)于所述邊緣像素單元設(shè)置,且所述透明填充層在所述彩膜基板的垂直方向上的厚度由所述非顯示區(qū)向所述顯示區(qū)方向逐漸減小。
2.如權(quán)利要求1所述的異形顯示面板,其特征在于,所述邊緣像素單元包括至少一個邊緣像素,所述邊緣像素包括多個不同顏色的邊緣子像素,所述透明填充層至少與一個所述邊緣子像素相對設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的異形顯示面板,其特征在于,所述透明填充層的部分區(qū)域設(shè)置于所述彩膜基板的非顯示區(qū)。
4.如權(quán)利要求1所述的異形顯示面板,其特征在于,所述陣列基板包括邊框膠,邊框膠與彩膜基板的非顯示區(qū)相對設(shè)置,所述透明填充層與所述邊框膠的側(cè)壁接觸。
5.如權(quán)利要求1-4任一項所述的異形顯示面板,其特征在于,所述透明填充層包括第一透明填充結(jié)構(gòu),所述第一透明填充結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述彩膜基板,且向靠近所述陣列基板的方向延伸。
6.如權(quán)利要求1-4任一項所述的異形顯示面板,其特征在于,所述透明填充層包括第二透明填充結(jié)構(gòu),所述第二透明填充結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述陣列基板,且向靠近所述彩膜基板的方向延伸。
7.如權(quán)利要求1-4任一項所述的異形顯示面板,其特征在于,所述透明填充層包括第一透明填充結(jié)構(gòu)和第二透明填充結(jié)構(gòu),所述第一透明填充結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述彩膜基板,所述第二透明填充結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述陣列基板,所述第一透明填充結(jié)構(gòu)的部分區(qū)域與所述第二透明填充結(jié)構(gòu)的部分區(qū)域接觸。
8.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-7任一項所述的異形顯示面板。
9.一種顯示面板的制備方法,適用于權(quán)利要求1-7任一項所述的異形顯示面板,其特征在于,包括:
提供一彩膜基板;
提供一陣列基板;
在所述彩膜基板與所述陣列基板之間設(shè)置透明填充層,所述透明填充層的至少部分區(qū)域?qū)?yīng)于所述彩膜基板的邊緣像素單元設(shè)置,且使得所述透明填充層在所述彩膜基板的垂直方向上的厚度由所述非顯示區(qū)向所述顯示區(qū)方向逐漸減小。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述在所述彩膜基板與所述陣列基板之間設(shè)置透明填充層的步驟包括:
在所述彩膜基板面向所述陣列基板的一側(cè)涂布光刻膠以形成第一透明層,然后采用掩膜版對所述第一透明層進行曝光、再顯影,最后刻蝕得到具有第一斜面的第一透明填充結(jié)構(gòu);和/或,
在所述陣列基板面向所述彩膜基板的一側(cè)涂布光刻膠以形成第二透明層,然后采用掩膜版對所述第二透明層進行曝光、再顯影,最后刻蝕得到具有第二斜面的第二透明填充結(jié)構(gòu)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





