[發明專利]制作漫反射板的方法及漫反射板

在審

• 申請號: 202110596964.7
• 申請日: 2021-05-28
• 公開（公告）號: CN113325499A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 張云雪;宋丹;何玉國;黃安琳
• 申請（專利權）人: 寧波市知行光學科技有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 鐘揚飛

1.一種制作漫反射板的方法，其特征在于，包括：

在基板上生成一層漫反射層；

在所述漫反射層上鍍膜，形成待刻蝕膜層；

在所述待刻蝕膜層上進行涂膠、曝光和顯影，形成初始圖案；

根據所述初始圖案刻蝕所述待刻蝕膜層，形成圖案層，得到漫反射板。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述待刻蝕膜層上進行涂膠、曝光和顯影，形成初始圖案包括：

在所述待刻蝕膜層上旋涂光刻膠；

利用具有圖案的掩模版對所述光刻膠進行曝光顯影，或直接使用激光直寫設備對所述光刻膠進行曝光，形成所述初始圖案；

其中，所述初始圖案為棋盤格圖案圓形陣列圖案、二維碼陣列或同心圓環陣列圖案中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述根據所述初始圖案刻蝕所述待刻蝕膜層，形成圖案層之后，還包括：

去除所述待刻蝕膜層上的殘余光刻膠。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板為光學玻璃。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述光學玻璃為蘇達玻璃或融石英玻璃。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述漫反射層的厚度大于5μm，所述漫反射層的粗糙度的范圍為0.01μm－0.5μm。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述漫反射層的材料為油漆或者油墨。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述待刻蝕膜層的材料為鉻或銀，所述待刻蝕膜層的厚度范圍為100nm－300nm。

9.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述光刻膠的厚度范圍為300nm－800nm。

10.一種漫反射板，其特征在于，包括：

基板；

漫反射層，形成于所述基板上；

圖案層，形成于所述漫反射層上。