[發(fā)明專利]光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)及攝像模組

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110594860.2
• 申請日: 2021-05-28
• 公開（公告）號: CN113189735A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 董懌
• 申請（專利權(quán)）人: 北京可利爾福科技有限公司
• 主分類號: G02B7/09
• 分類號: G02B7/09;G03B13/36;G02B27/64;G03B5/00
• 代理公司: 北京英創(chuàng)嘉友知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11447
• 代理人: 楊敏

本公開涉及一種光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)及攝像模組，其中，光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括第一基體、可在X?Y平面相對于第一基體移動的第二基體、以及可沿Z軸相對于第一基體移動的第三基體，其中，第一基體上設(shè)置有磁石，第二基體上設(shè)置有第一線圈，第三基體上設(shè)置有第二線圈，其中，磁石包括第一磁對、第二磁對以及設(shè)置在第一磁對和第二磁對之間的第三磁對，并具有由第一磁對和第三磁對形成的面向第一線圈的第一表面，以及由第二磁對和第三磁對形成的面向第二線圈的第二表面，其中，第三磁對在第一表面和第二表面處具有相同的磁極，第一磁對在第一表面的磁極與第三磁對相反以形成閉合磁路，第二磁對在第二表面的磁極與第三磁對相反以形成閉合磁路。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及光學(xué)成像技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)及攝像模組。

背景技術(shù)

相關(guān)技術(shù)中，為了提高攝像模組的成像清晰度，通常在攝像模組中引入光學(xué)防抖(即OIS)功能和自動對焦(即AF)功能。自動對焦功能和光學(xué)防抖功能大多采用磁石和線圈產(chǎn)生電磁作用驅(qū)動鏡頭來實(shí)現(xiàn)，由于攝像模組設(shè)置在電子設(shè)備中，而電子設(shè)備對空間的要求較大，目前的磁石不僅占用空間大、且在防抖方向和對焦方向的驅(qū)動力弱，很難兼顧整體結(jié)構(gòu)的小體積以及大驅(qū)動力的需求。

發(fā)明內(nèi)容

本公開的第一個目的是提供一種光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠解決目前的光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動力差的問題。

本公開的第二個目的是提供一種攝像模組，該攝像模組包括本公開提供的光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本公開提供一種光學(xué)器件驅(qū)動機(jī)構(gòu)，包括第一基體、可在X-Y平面相對于所述第一基體移動的第二基體、以及可沿Z軸相對于所述第一基體移動的第三基體，

其中，所述第一基體上設(shè)置有磁石，所述第二基體上設(shè)置有與所述磁石產(chǎn)生電磁作用以能夠相對移動的第一線圈，所述第三基體上設(shè)置有與所述磁石產(chǎn)生電磁作用以能夠相對移動的第二線圈，

其中，所述磁石包括第一磁對、第二磁對以及設(shè)置在所述第一磁對和所述第二磁對之間的第三磁對，并具有由所述第一磁對和所述第三磁對形成的面向所述第一線圈的第一表面，以及由所述第二磁對和所述第三磁對形成的面向所述第二線圈的第二表面，

其中，所述第三磁對在所述第一表面和所述第二表面處具有相同的磁極，所述第一磁對在所述第一表面的磁極與所述第三磁對相反以形成閉合磁路，所述第二磁對在所述第二表面的磁極與所述第三磁對相反以形成閉合磁路。

可選地，所述磁石的橫截面形成為L形結(jié)構(gòu)，所述第一磁對和所述第二磁對分別位于所述L形結(jié)構(gòu)的兩邊，所述第三磁對位于所述L形結(jié)構(gòu)的拐角處。

可選地，所述磁石構(gòu)造為由多個雙極磁塊拼接而成的分體式結(jié)構(gòu)，且所述第一磁對的充磁方向平行于Z軸、所述第二磁對的充磁方向平行于X軸、所述第三磁對的充磁方向傾斜于X-Y平面以及Z軸。

可選地，所述磁石的橫截面形成為方形，所述第一磁對和所述第二磁對分設(shè)在所述磁石的其中兩個對角處，所述第三磁對設(shè)置在另外兩個對角之間，所述第三磁對的充磁方向傾斜于X-Y平面以及Z軸。

可選地，所述磁石的橫截面形成為以所述第一表面和所述第二表面之間的直角為其中一個內(nèi)角的五邊形，所述第三磁對從所述直角的位置延伸至至少一個對邊，所述第三磁對的充磁方向相同傾斜于X-Y平面以及Z軸。

可選地，所述磁石構(gòu)造為由多個雙極磁塊拼接而成的分體式結(jié)構(gòu)，或者為通過多極充磁而形成的一體式結(jié)構(gòu)。

可選地，所述第一磁對和所述第二磁對結(jié)構(gòu)相同。

可選地，所述第一線圈的背向所述第一磁對的一側(cè)設(shè)置有第一磁性件，和/或所述第二線圈的背向所述第二磁對的一側(cè)設(shè)置有第二磁性件。

可選地，所述第一基體和所述第二基體之間接觸設(shè)置有滾珠，以支撐所述第二基體相對于所述第一基體運(yùn)動。