[發明專利]基于光纖環形器的微小型原子磁強計及磁成像系統在審
| 申請號: | 202110594386.3 | 申請日: | 2021-05-28 |
| 公開(公告)號: | CN113311369A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發明(設計)人: | 馮焱穎;李曉杰;郭志浩 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | G01R33/032 | 分類號: | G01R33/032 |
| 代理公司: | 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606 | 代理人: | 樊春燕 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 光纖 環形 微小 原子 磁強計 成像 系統 | ||
1.一種原子磁強計,其特征在于,包括:
激光光源(100),用于發出入射激光;
光纖環形器(110),包括第一端口(111)、第二端口(112)和第三端口(113),所述入射激光從所述第一端口(111)輸入,從所述第二端口(112)輸出;
磁強計探頭(120),所述第二端口(112)輸出的所述入射激光進入所述磁強計探頭(120)后,再原路返回輸入所述第二端口(112),并由所述第三端口(113)輸出;
光電探測器(130),用于接收所述第三端口(113)輸出的所述入射激光。
2.如權利要求1所述的原子磁強計,其特征在于,所述磁強計探頭(120)包括原子氣室(123),所述入射激光能夠與所述原子氣室(123)中的原子氣體發生相互作用。
3.如權利要求2所述的原子磁強計,其特征在于,所述磁強計探頭(120)還包括反射鏡(127),所述原子氣室(123)位于所述第二端口(112)和所述反射鏡(127)之間,所述反射鏡(127)對進入所述磁強計探頭(20)的所述入射激光進行反射。
4.如權利要求2所述的原子磁強計,其特征在于,所述磁強計探頭(120)包括反射膜(125),設置于所述原子氣室(123)側壁,所述反射膜(125)對進入所述磁強計探頭(20)的所述入射激光進行反射。
5.如權利要求3所述的原子磁強計,其特征在于,所述磁強計探頭(120)還包括:
準直器(121),位于所述第二端口(112)與所述原子氣室(123)之間;
四分之一波片(122),位于所述準直器(121)與所述原子氣室(123)之間。
6.如權利要求5所述的原子磁強計,其特征在于,所述磁強計探頭(120)還包括保溫腔室(124),所述原子氣室(123)收納于所述保溫腔室(124),所述保溫腔室(124)用于對所述原子氣室(123)進行保溫。
7.如權利要求6所述的原子磁強計,其特征在于,所述磁強計探頭(120)還包括二維磁場調制裝置(126),所述二維磁場調制裝置(126)包括:
軸向沿著第一方向的第一磁場調制線圈組(1261);
和軸向沿著第二方向的第二磁場調制線圈組(1262),所述第一方向和所述第二方向垂直,所述第一磁場調制線圈組(1261)設置于所述第二磁場調制線圈組(1262)中,所述第一磁場調制線圈組(1261)和所述第二磁場調制線圈組(1262)共同圍構形成一個磁場空間(1263);
所述保溫腔室(124)和所述原子氣室(123)收納于所述磁場空間(1263)中,所述二維磁場調制裝置(126)用于在所述原子氣室(123)中產生磁場。
8.如權利要求7所述的原子磁強計,其特征在于,所述磁強計探頭(120)還包括探頭機械結構(128),所述準直器(121)、所述四分之一波片(122)、所述原子氣室(123)和所述反射鏡(127)安裝于所述探頭機械結構(128)。
9.如權利要求8所述的原子磁強計,其特征在于,還包括:
磁場控制與鎖相放大控制器(140),分別與所述光電探測器(130)電連接和所述二維磁場調制裝置(126)電連接,用于實現磁場的調制和磁場信號的鎖相放大輸出。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于清華大學,未經清華大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110594386.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





