[發(fā)明專利]一種氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110593332.5
• 申請(qǐng)日: 2021-07-15
• 公開（公告）號(hào): CN113387453A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李雙濤;黃益平;朱昊;劉漢飛;倪嵩波;黃晶晶;倪澤雨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中建安裝集團(tuán)有限公司
• 主分類號(hào): C02F7/00
• 分類號(hào): C02F7/00
• 代理公司: 南京先科專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32285
• 代理人: 孫甫臣

1.一種氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，包括本體，所述本體包括前端漸縮段、中部切割室、后端混合段及超微細(xì)化結(jié)構(gòu)。

2.如權(quán)利要求1所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述前端漸縮段的壁面與水平軸線的夾角為16°-35°。

3.如權(quán)利要求1所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述中部切割室內(nèi)設(shè)有氣液混合切割區(qū)；所述氣液混合切割區(qū)的截面為環(huán)形，所述氣液混合切割區(qū)內(nèi)的氣相切割流速為5-19m/s。

4.如權(quán)利要求1所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述后端混合段包括水平段和漸擴(kuò)段；所述漸擴(kuò)段的壁面與水平軸線的夾角為3°-10°。

5.如權(quán)利要求4所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述前端漸縮段上設(shè)有液相進(jìn)口和出口；所述后端混合段的水平段內(nèi)徑橫截面積與前端漸縮段出口的內(nèi)徑橫截面積的比值為1.15-3.38。

6.如權(quán)利要求1所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述超微細(xì)化結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有螺旋導(dǎo)流片，所述螺旋導(dǎo)流片與水平軸線的夾角為25°-68°。

7.如權(quán)利要求6所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述超微細(xì)化結(jié)構(gòu)內(nèi)位于螺旋導(dǎo)流片的后側(cè)方設(shè)有流體切割頭分布區(qū)，所述流體切割頭分布區(qū)包括2-7個(gè)環(huán)形截面區(qū)，所述環(huán)形截面區(qū)內(nèi)布置若干個(gè)流體切割頭。

8.如權(quán)利要求7所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述流體切割頭分布區(qū)置于所述超微細(xì)化結(jié)構(gòu)混合出口前5-10cm處；所述流體切割頭設(shè)置為傘狀封閉結(jié)構(gòu)。

9.如權(quán)利要求8所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述傘狀封閉結(jié)構(gòu)包括與超微細(xì)化結(jié)構(gòu)內(nèi)壁連接的傘柄段，所述傘柄段的另一端設(shè)置傘帽段，所述傘柄段的直徑為1-5cm，所述傘帽段的最大圓形截面直徑為傘柄段直徑的1.2-2.5倍，所述傘帽段的外壁設(shè)有不光滑表面，所述不光滑表面的凹凸高度差不大于2mm。

10.如權(quán)利要求1所述的氣液垂直環(huán)形切割微界面空化混合設(shè)備，其特征在于，所述前端漸縮段、中部切割室、后端混合段及超微細(xì)化結(jié)構(gòu)依次連接形成一整體結(jié)構(gòu)；所述前端漸縮段、中部切割室、后端混合段之間連接的方式包括焊接連接、螺紋連接和法蘭連接；所述超微細(xì)化結(jié)構(gòu)與后端混合段的連接方式包括直連和管道連接。