[發明專利]一種陣列基板、顯示面板、顯示裝置及其制作方法

在審

• 申請號: 202110592598.8
• 申請日: 2021-05-28
• 公開（公告）號: CN113296304A
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發明（設計）人: 陳鵬;張新霞;杜化鯤;李恒濱;馬力;王景棚;陳健健;張熠點
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1362;G02F1/1339
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 張帆

1.一種陣列基板，包括襯底、設置在所述襯底上的驅動電路層，所述驅動電路層包括源漏層，其特征在于，包括陣列排布的像素單元，

每個像素單元包括設置在所述源漏層上的限位組件，用于限定與所述陣列基板對盒的彩膜基板的支撐柱。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，每個像素單元包括像素電極，所述陣列基板包括設置在所述源漏層上的并且一體成型的第一絕緣層；

每個像素單元的第一絕緣層包括第一區域、第二區域和第三區域，其中

所述第一區域相對于所述襯底的厚度大于所述第二區域相對于襯底的厚度以形成所述限位組件和由所述限位組件限定的限位區域，所述限位區域與所述支撐柱對應設置；

所述第三區域為貫通所述第一絕緣層的通孔以露出所述源漏層以電連接所述像素電極。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層的第一區域、第二區域和第三區域為使用具有不同透過率的掩膜板在同一圖案化工藝中形成的，其中

所述第一區域對應的掩膜板的透過率小于所述第二區域對應的掩膜板的透過率；

所述第二區域對應的掩膜板的透過率小于所述第三區域對應的掩膜板的透過率。

4.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，

所述第一區域對應的掩膜板的透過率為0；

所述第二區域對應的掩膜板的透過率為40％-50％；

所述第三區域對應的掩膜板的透過率為100％。

5.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層為有機層，其中，

所述第一區域相對于所述襯底的厚度為第一預設厚度，所述第一區域的坡度角滿足第一預設坡度角范圍；

所述第二區域相對于所述襯底的厚度為第二預設厚度；

所述第三區域的坡度角滿足第三預設坡度角范圍。

6.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層為正性光刻膠。

7.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括設置在所述第一絕緣層上的第二絕緣層，所述第二絕緣層相對于所述襯底的厚度小于所述第一絕緣層相對于所述襯底的厚度；

所述第二絕緣層為無機層。

8.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述限位組件相對于所述限位區域為圓環形狀、矩形環狀、兩點限位形狀、三點限位形狀和四點限位形狀中的一個。

9.一種顯示面板，其特征在于，包括如權利要求1-8中任一項所述的陣列基板和與所述陣列基板對盒的彩膜基板，其中

所述彩膜基板包括支撐柱，所述支撐柱對應于所述陣列基板的每個像素單元的限位組件，所述支撐柱靠近所述彩膜基板的一側在所述襯底上的正投影覆蓋所述支撐柱遠離所述彩膜基板的一側在所述襯底上的正投影。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求9所述的顯示面板。

11.一種制作如權利要求1-8中任一項所述的陣列基板的制作方法，陣列基板，包括襯底、設置在所述襯底上的驅動電路層，所述驅動電路層包括源漏層，其特征在于，所述陣列基板包括陣列排布的像素單元，包括：

在每個像素單元的源漏層上形成限位組件，所述限位組件用于限定與所述陣列基板對盒的彩膜基板的支撐柱。

12.根據權利要求11所述的制作方法，其特征在于，所述在每個像素單元放入源漏層上形成限位組件進一步包括：

在所述源漏層上形成第一絕緣材料；

使用具有不同透過率的掩膜板圖案化所述第一絕緣材料分別形成第一區域、第二區域和第三區域，其中所述第一區域相對于所述襯底的厚度大于所述第二區域相對于襯底的厚度以形成所述限位組件和由所述限位組件限定的限位區域，所述限位區域與所述支撐柱對應設置，所述第三區域為貫通所述第一絕緣層的通孔以露出所述源漏層。