[發明專利]一種戰斗部破片密度計算方法在審
| 申請號： | 202110591297.3 | 申請日： | 2021-05-28 |
| 公開（公告）號： | CN113361085A | 公開（公告）日： | 2021-09-07 |
| 發明（設計）人： | 高俊釵;李翰山;閆克丁;孟祥艷;張曉倩;張雪薇;付永升 | 申請（專利權）人： | 西安工業大學 |
| 主分類號： | G06F30/20 | 分類號： | G06F30/20 |
| 代理公司： | 西安合創非凡知識產權代理事務所(普通合伙) 61248 | 代理人： | 張翠華 |
| 地址： | 710000*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 戰斗 破片 密度 計算方法 | ||
1.一種戰斗部破片密度計算方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1：以戰斗部爆炸中心為原點建立坐標系；
S2：確定戰斗部爆炸后破片在等效靶板上的待投影區域；
S3：建立等效靶板待投影區域內任意一點的坐標與其投影到戰斗部爆炸球球面上對應點坐標的轉換關系模型；
S4：建立等效靶板上的待投影區域投影至戰斗部爆炸球球面上面積的積分模型；
S5：通過步驟S4中的積分模型計算等效靶板上的待投影區域投影至戰斗部爆炸球球面上的面積，并通過等效靶板待投影區域內的破片數量獲得戰斗部破片分布密度。
2.根據權利要求1所述戰斗部破片密度計算方法，其特征在于，步驟S3中所述的坐標轉換關系模型見式（2）：
（2）
其中，所述R為戰斗部爆炸球半徑，為仰視角，為方位角。
3. 根據權利要求1所述戰斗部破片密度計算方法，其特征在于，所述等效靶板的待投影面積積分模型見式（3）：
（3）
其中，，，，
s為等效靶板上的待投影區域投影至戰斗部爆炸球球面上面積，單位mm2，h為等效靶板的高度，β為方位角；
其中，、、、、、的具體公式如下：
（4）
（5）
（6）
（7）
（8）
（9）。
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