[發明專利]一種天幕靶探測面離焦位置估算方法有效
| 申請號： | 202110591275.7 | 申請日： | 2021-05-28 |
| 公開（公告）號： | CN113358330B | 公開（公告）日： | 2022-11-01 |
| 發明（設計）人： | 韓淏睿;楊雨弋;薛琦濤;李瑞琪 | 申請（專利權）人： | 中北大學 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02;G06F17/10 |
| 代理公司： | 西安合創非凡知識產權代理事務所(普通合伙) 61248 | 代理人： | 張翠華 |
| 地址： | 030000*** | 國省代碼： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 天幕 探測 面離焦 位置 估算 方法 | ||
1.一種天幕靶探測面離焦位置估算方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1：獲取天幕靶的鏡頭焦距及探測范圍；
S2：根據天幕靶的最近探測距離和最遠探測距離計算對焦面像距；
S3：確定天幕靶鏡頭的光圈系數，并通過公式（1）計算鏡頭的入瞳直徑，
（1）；
S4：根據彌散斑與鏡頭成像的幾何關系，建立探測面離焦位置的幾何約束關系；
S5：最遠探測距離產生的彌散斑直徑與最近探測距離產生的彌散斑直徑相等時獲得的探測面離焦位置為最優探測面離焦位置，并進一步獲得探測面的優化離焦量；
所述計算對焦面像距的幾何約束公式見式（2）：
（2）
其中，為焦距，為天幕靶的探測距離，為對焦面像距；
所述探測面離焦位置幾何約束關系見式（3）和式（4）：
（3）
（4）
其中，為最遠探測距離的對焦面像距，為最近探測距離的對焦面像距，為最遠探測距離產生的彌散斑直徑，為最近探測距離產生的彌散斑直徑，為最優探測面離焦位置；
最優探測面離焦位置的計算公式見式（5）：
（5）
其中，為最遠探測距離的對焦面像距，為最近探測距離的對焦面像距，為最優探測面離焦位置；
計算出最優探測面離焦位置，其與鏡頭的焦距進行比較，得出探測面的優化離焦量。
2.根據權利要求1所述天幕靶探測面離焦位置估算方法，其特征在于，所述方法還包括通過獲得的最優探測面離焦位置計算最大彌散斑直徑。
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