[發(fā)明專利]一種介質(zhì)陶瓷異形件及其制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110588477.6
• 申請日: 2021-05-27
• 公開（公告）號: CN113548886A
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 謝義鵬;符仁敏;薛偉志
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東康榮高科新材料股份有限公司
• 主分類號: C04B35/465
• 分類號: C04B35/465;C04B35/50;C04B35/622;C04B35/64;C04B35/638;C04B35/634;C04B35/632;B28B1/24
• 代理公司: 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44288
• 代理人: 楊艷

1.一種介質(zhì)陶瓷異形件，其特征在于，包括以下重量份數(shù)的原料：2000～3000份基體、130份～170份高溫塑料、210份～290份低溫塑料、40～80份蠟類和20～40份表面活性劑；

所述基體為介質(zhì)陶瓷粉；所述高溫塑料包括80～100份聚酰胺、10～20份聚醚酰亞胺粉和40～50份聚馬來酰亞胺粉；所述低溫塑料包括120～160份聚乙烯、40～60份馬來酸酐接枝聚乙烯和50～70份乙烯-醋酸乙烯共聚物。

2.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)陶瓷異形件，其特征在于，所述介質(zhì)陶瓷粉為介電常數(shù)19～21的介質(zhì)陶瓷、介電常數(shù)33～46的介質(zhì)陶瓷或介電常數(shù)80～92的介質(zhì)陶瓷中的一種或兩種以上組合物。

3.如權(quán)利要求2所述的介質(zhì)陶瓷異形件，其特征在于，所述介電常數(shù)19～21的介質(zhì)陶瓷為鎂鈣鈦體系介質(zhì)陶瓷、鎂鍶鈦體系介質(zhì)陶瓷、鈣鑭鋁鈦介質(zhì)陶瓷、鈣釹鋁鈦介質(zhì)陶瓷或鈣釤鋁鈦介質(zhì)陶瓷中的一種或兩種以上組合物；所述介電常數(shù)33～46的介質(zhì)陶瓷為為鋇鈷鋅鈮體介質(zhì)陶瓷、鈦酸鋇體系介質(zhì)陶瓷、鋯錫鈦體系介質(zhì)陶瓷、鍶鈦鑭鋁體系介質(zhì)陶瓷或鈣鈦鑭鋁體系介質(zhì)陶瓷中的一種或兩種以上組合物；所述介電常數(shù)80～92的介質(zhì)陶瓷為鋇釹鈦體系介質(zhì)陶瓷和/或鋇鉛釹鈦體系介質(zhì)陶瓷。

4.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)陶瓷異形件，其特征在于，所述蠟類包括20～30份乙烯基雙硬脂酰胺和20～50份聚乙烯蠟。

5.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)陶瓷異形件，其特征在于，所述表面活性劑包括10～20份油酸和10～20份聚丙烯酸銨鹽。

6.權(quán)利要求1～5任一項所述的介質(zhì)陶瓷異形件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)在密煉機(jī)中加入配放量的介質(zhì)陶瓷粉和表面活性劑，加熱至100～150℃混合；然后升溫至250～270℃后，加入高溫塑料和低溫塑料，再加入蠟類混合；降溫造粒，得到一次喂料；

2)待密煉機(jī)升溫至250～270℃后，將一次喂料投入至密煉機(jī)中密煉，降溫后造粒，得到一步燒結(jié)法注射成型喂料；

3)將一步燒結(jié)法注射成型喂料加入到注塑機(jī)的料斗內(nèi)，分為四段射出段，得到注射成型品；其中，射出一段的溫度為240～260℃，射出二段的溫度為230～250℃，射出三段為195～240℃，射出四段為180～210℃；

4)將注射成型品放入燒結(jié)爐中，先脫脂后燒結(jié)，脫脂分為五個區(qū)間，燒結(jié)分為兩個區(qū)間，燒結(jié)完成后得到介質(zhì)陶瓷異形件；其中，第一區(qū)間的開始溫度為25℃，結(jié)束溫度為180℃；第二區(qū)間的開始溫度為180℃，結(jié)束溫度為230℃；第三區(qū)間的開始溫度為180℃，結(jié)束溫度為380℃；第四區(qū)間的開始溫度為380℃，結(jié)束溫度為650℃；第五區(qū)間的開始溫度為650℃，結(jié)束溫度為650℃；第六區(qū)間的開始溫度為650℃，結(jié)束溫度為1000～1600℃；第七區(qū)間的開始溫度為1000～1600℃，結(jié)束溫度為1000～1600℃。

7.如權(quán)利要求6所述的介質(zhì)陶瓷異形件的制備方法，其特征在于，步驟1)中，介質(zhì)陶瓷粉和表面活性劑的混合時間為10～20min，加入高溫塑料和低溫塑料的混合時間為45～60min，再加入蠟類的混合時間為90～120min。

8.如權(quán)利要求6所述的介質(zhì)陶瓷異形件的制備方法，其特征在于，步驟3)中，射出一段的壓力為55～95MPa，注射速度為30～40mm/s；射出二段的壓力為50～90MPa，注射速度為20～30mm/s；射出三段的壓力為45～85MPa，注射速度為15～20mm/s；射出四段的壓力為40～80MPa，注射速度為10～15mm/s；注射成型總時間為5～10min。